[实用新型]一种防止酸洗盘偏移的二极管生产用酸洗架有效
申请号: | 202023311005.6 | 申请日: | 2020-12-31 |
公开(公告)号: | CN213716860U | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 李想 | 申请(专利权)人: | 深圳市珑威盛科电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;H01L21/67;H01L21/329 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市龙华区龙华*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 防止 酸洗 偏移 二极管 生产 | ||
1.一种防止酸洗盘偏移的二极管生产用酸洗架,包括基座(1),其特征在于:所述基座(1)的左右两侧均设置有防撞垫(3),且基座(1)的上方均设置有固定块(4),所述固定块(4)的上方均设置有液压缸(5),且液压缸(5)的上方均设置有液压升降杆(6),所述液压升降杆(6)的上方均设置有固定板(7),且固定板(7)的内侧均设置有放置箱(8),所述放置箱(8)的左右两侧均设置有防碰角软垫(9),且放置箱(8)的前方外侧均设置有标签贴(10)。
2.如权利要求1所述的一种防止酸洗盘偏移的二极管生产用酸洗架,其特征在于:所述基座(1)的内部均还设置有减震弹簧(2),且减震弹簧(2)与基座(1)焊接。
3.如权利要求1所述的一种防止酸洗盘偏移的二极管生产用酸洗架,其特征在于:所述防撞垫(3)与基座(1)螺钉连接,且防撞垫(3)关于基座(1)的中轴线对称设置。
4.如权利要求1所述的一种防止酸洗盘偏移的二极管生产用酸洗架,其特征在于:所述固定板(7)的一端固定连接在液压升降杆(6)的一端,且固定板(7)通过液压升降杆(6)与液压缸(5)升降连接。
5.如权利要求1所述的一种防止酸洗盘偏移的二极管生产用酸洗架,其特征在于:所述防碰角软垫(9)与放置箱(8)螺钉连接,且防碰角软垫(9)在放置箱(8)的上方均匀分布。
6.如权利要求5所述的一种防止酸洗盘偏移的二极管生产用酸洗架,其特征在于:所述放置箱(8)的左右两侧内壁均设置有横杆(11),且横杆(11)的外侧均设置有限位孔(12),所述限位孔(12)的内部均设置有限位块(13),且限位块(13)的内侧均设置有弹簧(14),所述弹簧(14)的内侧设置有伸缩杆(15)。
7.如权利要求6所述的一种防止酸洗盘偏移的二极管生产用酸洗架,其特征在于:所述伸缩杆(15)的内侧均设置有夹块(16),且夹块(16)的内侧均设置有防滑垫(17),所述防滑垫(17)的内侧设置有酸洗盘(18)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造