[实用新型]稳定型光栅尺有效

专利信息
申请号: 202023314934.2 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN214223987U 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 巫孟良;胡勇;吴国良;蒋南 申请(专利权)人: 广东万濠精密仪器股份有限公司
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00
代理公司: 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 代理人: 吴成开;徐勋夫
地址: 523000 广东省东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 稳定 光栅尺
【说明书】:

实用新型公开一种稳定型光栅尺,包括有基板和设置于基板之表面上的多个刻度光栅;每一刻度光栅均包括有下氧化铬层、铬层和上氧化铬层;该下氧化铬层结合固定在基板的表面上,该铬层结合固定在下氧化铬层的表面上,该上氧化铬层结合固定在铬层的表面上。通过由下氧化铬层、铬层和上氧化铬层组成刻度光栅,利用下氧化铬层和上氧化铬层包覆住铬层,氧化铬更硬,可减少划痕,化学稳定性更好,产品更耐用,并且下氧化铬层和上氧化铬层可减少光的反射量,使得平行光质量更好。

技术领域

本实用新型涉及光栅尺领域技术,尤其是指一种稳定型光栅尺。

背景技术

在精密测量与自动控制领域,常采用光栅作为基准,被公认为是获取高精度最实用、最经济、最可靠的技术。此外光栅尺以其检测范围大、检测精度高和响应速度快等特点,被广泛应用于数控机床中,数控系统根据光栅尺反馈的位置信息来进行机械加工,因此光栅尺的精度直接决定了数控机床的加工精度。

目前的光栅尺的主要结构包括有基板和设置于基板之表面上的多个刻度光栅,该刻度光栅通常为铬材质,铬材质较软,容易出现划痕,化学稳定性差,不耐用,并且对光的反射量大,使平行光质量较差。因此,有必要研究一种方案以解决上述问题。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型针对现有技术存在之缺失,其主要目的是提供一种稳定型光栅尺,其能有效解决现有之光栅尺化学稳定性差并且会使平行光质量变差的问题。

为实现上述目的,本实用新型采用如下之技术方案:

一种稳定型光栅尺,包括有基板和设置于基板之表面上的多个刻度光栅;每一刻度光栅均包括有下氧化铬层、铬层和上氧化铬层;该下氧化铬层结合固定在基板的表面上,该铬层结合固定在下氧化铬层的表面上,该上氧化铬层结合固定在铬层的表面上。

作为一种优选方案,所述下氧化铬层通过真空溅镀的方式结合固定在基板的表面上。

作为一种优选方案,所述铬层通过真空溅镀的方式结合固定在下氧化铬层的表面上。

作为一种优选方案,所述上氧化铬层通过真空溅镀的方式结合固定在铬层的表面上。

作为一种优选方案,所述铬层的厚度大于下氧化铬层的厚度,且下氧化铬层和上氧化铬层的厚度相同。

作为一种优选方案,所述基板为二氧化硅材质。

本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果,具体而言,由上述技术方案可知:

一、通过由下氧化铬层、铬层和上氧化铬层组成刻度光栅,利用下氧化铬层和上氧化铬层包覆住铬层,氧化铬更硬,可减少划痕,化学稳定性更好,产品更耐用,并且下氧化铬层和上氧化铬层可减少光的反射量,使得平行光质量更好。

二、通过采用二氧化硅材质的基板,利用下氧化铬层可与二氧化硅材质的基板结合牢固,并配合铬层可与上氧化铬层、下氧化铬层结合牢固,从而使本产品的耐磨性能得到很大的提升,有利于延长产品的使用寿命。

为更清楚地阐述本实用新型的结构特征和功效,下面结合附图与具体实施例来对本实用新型进行详细说明。

附图说明

图1是本实用新型之较佳实施例的局部截面图。

附图标识说明:

10、基板 20、刻度光栅

21、下氧化铬层 22、铬层

23、上氧化铬层。

具体实施方式

请参照图1所示,其显示出了本实用新型之较佳实施例的具体结构,包括有基板10和设置于基板10之表面上的多个刻度光栅20。

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