[实用新型]一种高效散热的平面靶有效

专利信息
申请号: 202023315858.7 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN214218842U 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 王伟平;王金泉;王菊姿 申请(专利权)人: 莱糸真空科技(常州)有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 北京君泊知识产权代理有限公司 11496 代理人: 李丹
地址: 213000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 高效 散热 平面
【说明书】:

实用新型公开了一种高效散热的平面靶,涉及平面靶领域,为解决现有技术中的现有的平面靶在高强度使用中会产生高温,影响溅射速率的问题。所述平面靶主体的一侧安装有散热连接板,所述散热连接板的一侧安装有支撑板,所述支撑板的一侧安装有冷却水箱,所述平面靶主体的内表面设置有平面靶限位块,所述平面靶限位块设置有四个,四个所述平面靶限位块的一侧均设置有平面靶凹槽,所述散热连接板的内侧设置有连接板限位块,四个所述连接板限位块的一侧均设置有连接板凹槽,所述连接板凹槽的内部安装有冷却水管,所述冷却水管的两端均延伸至连接板限位块内部与连接板限位块密封连接,所述连接板限位块的内部设置有储水腔。

技术领域

本实用新型涉及平面靶技术领域,具体为一种高效散热的平面靶。

背景技术

溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。溅射靶材有金属,合金,陶瓷,硼化物等。

溅射靶材根据形状可分为平面靶材,多弧靶材,旋转靶材。平面靶材主要是指具有一定厚度的圆形靶材及矩形靶材,例如:直径100*厚度40mm的铜靶材。平面靶材通过镙文等方式与溅射设备相连接,在真空条件下溅射成膜层附着于基片上,再通过各种手段(刻蚀)对薄膜加工,以满足不同需要。现有的平面靶在高强度使用中会产生高温,影响溅射速率;因此市场急需研制一种高效散热的平面靶来帮助人们解决现有的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种高效散热的平面靶,以解决上述背景技术中提出的现有的平面靶在高强度使用中会产生高温,影响溅射速率的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种高效散热的平面靶,包括平面靶主体,所述平面靶主体的一侧安装有散热连接板,所述散热连接板的一侧安装有支撑板,所述支撑板的一侧安装有冷却水箱,所述平面靶主体的内表面设置有平面靶限位块,所述平面靶限位块设置有四个,四个所述平面靶限位块的一侧均设置有平面靶凹槽,所述散热连接板的内侧设置有连接板限位块,所述连接板限位块设置有四个,四个所述连接板限位块的一侧均设置有连接板凹槽,所述连接板凹槽的内部安装有冷却水管,所述冷却水管的两端均延伸至连接板限位块内部与连接板限位块密封连接,且所述连接板限位块的内部设置有储水腔,所述储水腔的内部设置有电磁阀。

优选的,所述平面靶主体与平面靶限位块和平面靶凹槽设置为一体成型结构,所述平面靶凹槽的形状与连接板限位块的形状相同,所述平面靶限位块的形状与连接板凹槽的形状相同。

优选的,所述连接板限位块和连接板凹槽均与散热连接板设置为一体成型结构,所述平面靶限位块和连接板凹槽的内部均设置有螺纹孔,所述平面靶主体嵌入散热连接板内壁与散热连接板通过固定螺丝连接。

优选的,所述散热连接板的内部中间设置有连接板筒体,所述连接板筒体与散热连接板设置为一体结构,所述平面靶主体的内部中间设置有平面靶连接柱,所述平面靶连接柱与平面靶主体设置为一体结构,所述平面靶连接柱嵌入连接板筒体内部与散热连接板卡合,所述连接板筒体的内部安装有螺母,所述平面靶连接柱的内部中间安装有紧固螺栓,所述紧固螺栓穿过平面靶连接柱与螺母螺纹连接。

优选的,所述支撑板与散热连接板通过固定螺丝连接,所述冷却水箱穿过支撑板延伸至散热连接板内部与散热连接板密封连接,所述冷却水箱的外部设置有循环泵,所述循环泵的外部安装有导水管,所述导水管的两端分别与电磁阀和循环泵密封连接。

优选的,所述平面靶限位块的内部设置有限位隔条,所述限位隔条的内部设置有管道槽,所述冷却水管的两端均设置有连接口,所述冷却水管通过连接口与储水腔密封连接,且所述冷却水管嵌入管道槽内部与限位隔条卡合。

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