[实用新型]一种匀流板有效
申请号: | 202023316451.6 | 申请日: | 2020-12-31 |
公开(公告)号: | CN214254441U | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 林佳继;庞爱锁;朱太荣;林依婷 | 申请(专利权)人: | 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C30B31/16 |
代理公司: | 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人: | 董世博 |
地址: | 518118 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 匀流板 | ||
本实用新型为一种匀流板,其特征在于,包括匀流筒以及支架;匀流筒设置于支架;匀流筒包括透气板,透气板上设置有透气孔;通过在炉管的进气管一端设置匀流筒,使进气管输入的反应气体首先通过匀流筒,通过透气板的匀流作用,使反应气体均匀通向炉管内的待加工产品,保证炉管内反应气流均匀。
技术领域
本实用新型涉及半导体制造及太阳能光伏电池制造领域,特别是涉及一种匀流板。
背景技术
目前的硅片制成太阳能电池的主流工序步骤包括:制绒、扩散、刻蚀、镀膜、印刷、烧结等。其中扩散是制备PN结的重要工艺过程,常规扩散方法是将硅片送入石英舟中,并将在载有硅片的石英舟推送入管式扩散炉罐内,将扩散炉升温至第一预设温度,向扩散炉内通入工艺气体,保持温度一定时间;直至源沉积,停止通入工艺气体,间温度调整为第二预设温度,进行源扩散工艺。在扩散、氧化等工艺中都涉及多种气态反应,反应气体通过流量计和阀控制后,从真空管路进入反应腔体。反应气体进入腔体的过程一般都是由小管径的管道进入大腔体,在管道的入口处以及管道的气流流向的路径上容易形成反应气体集中,造成产品上的反应不均匀;另外气流的集中冲击会影响炉管内的局部温度,使炉管内产生局部温差。因此需要一种能够打散气流的匀流板。
发明内容
本实用新型的目的是解决现有技术的不足,提供一种匀流板,结构简单,使用方便。
一种匀流板,其特征在于,包括匀流筒以及支架;匀流筒设置于支架;匀流筒包括透气板,透气板上设置有透气孔。
进一步的,所述支架包括把手以及支撑管,把手设置于支撑管的一端。
进一步的,所述支撑管共两根,两根支撑管平行设置。
进一步的,所述把手呈直线形,在把手的两端设置凸起结构,凸起朝向相同的方向;把手的凸起结构连接有支撑管,支撑管和把手垂直设置。
进一步的,所述匀流筒还包括圆筒,圆筒呈管状,透气板设置于圆筒内部的一端。
进一步的,所述匀流筒设置于支架,透气板的一端远离把手设置。
进一步的,所述支架设置于炉管内,把手所处的水平面高于支撑管所处的水平面。
进一步的,所述支架靠近炉管的进气管的一端设置;支架的把手朝向进气管或者背向进气管。
进一步的,所述支撑管的直径加上圆筒的外径一半,与炉管内径的一半相等。
进一步的,所述炉管的尾排管距离炉管轴线的最小距离大于圆筒的外径的一半;同一块透气板上的透气孔孔径一致。
本实用新型的有益效果为:
通过在炉管的进气管一端设置匀流筒,使进气管输入的反应气体首先通过匀流筒,通过透气板的匀流作用,使反应气体均匀通向炉管内的待加工产品,保证炉管内反应气流均匀;
通过设置支架,对匀流筒实现支撑,并且通过支架的把手,对匀流筒所处的位置能够进行方便地调节。
附图说明
图1为本实用新型实施例一中匀流筒设置于炉管内的示意图;
图2为本实用新型实施例一中匀流筒设置于支架的示意图;
图3为本实用新型实施例一中匀流筒设置于炉管并且支架的把手背离进气管的示意图;
图4为本实用新型实施例一中匀流筒设置于炉管内的透视图。
附图标识说明:匀流筒1、透气板11、透气孔12、圆筒13、支架2、把手21、凸起结构22、支撑管23、进气管3、尾排管4。
具体实施方式
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的