[实用新型]一种电池片表层处理装置有效
申请号: | 202023341488.4 | 申请日: | 2020-12-30 |
公开(公告)号: | CN214203713U | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 安徽华晟新能源科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/072;H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 北京清大紫荆知识产权代理有限公司 11718 | 代理人: | 彭一波 |
地址: | 242074 安徽省宣城市宣城经*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电池 表层 处理 装置 | ||
本申请实施例中提供了一种电池片表层处理装置,属于太阳能电池制造技术领域,具体包括研磨平台、电池片载具、升降组件、移动组件和机架;研磨平台用于对电池片的表层进行研磨;电池片载具用于传输电池片或固定与研磨平台接触的电池片;升降组件与电池片载具固定连接,升降组件用于控制电池片载具在竖直方向上靠近和远离研磨平台,以使电池片与研磨平台接触或分离;移动组件固定安装在机架上;移动组件的输出端与升降组件固定连接,移动组件用于控制升降组件进入和移出研磨平台正上方的区域,且升降组件通过移动组件固定在机架上。通过本申请的处理方案,去除电池片表面的线痕,减少线痕对后续制绒工艺的影响。
技术领域
本申请涉及太阳能电池制造的技术领域,尤其是涉及一种电池片表层处理装置。
背景技术
异质结电池(HeteroJunction with intrinsic Thinfilm,简称HJT)是目前太阳能电池中效率较高的一种。其结构是以硅基片为衬底,在衬底的两侧分别形成对称的本征富氢非晶硅薄膜、P型或N型的非晶硅薄膜、透明导电层以及电极。
在异质结电池的生产工艺中,首先步骤是进行制绒清洗,即去除衬底表面的油污和金属杂质,去除机械损伤层,形成金字塔绒面,陷光并减少表面反射。去除电池表面损伤层一般用高浓度的碱性溶液,刻蚀表面损伤层,但是经过去损伤层工艺后,表面依然可以看到明显的线痕。导致在后续制绒工艺中,线痕处的金字塔尺寸与非线痕处有明显的区别。
实用新型内容
有鉴于此,本申请提供一种电池片表层处理装置,解决了现有技术中去除电池表面的损伤层后,依然存在线痕的问题,提高制绒工艺中金字塔大小的均匀性。
本申请提供的一种电池片表层处理装置采用如下的技术方案:
一种电池片表层处理装置,包括研磨平台、电池片载具、升降组件、移动组件和机架;
所述研磨平台用于对电池片的表层进行研磨;
所述电池片载具用于传输电池片或固定与所述研磨平台接触的电池片;
所述升降组件与所述电池片载具固定连接,所述升降组件用于控制所述电池片载具在竖直方向上靠近和远离所述研磨平台,以使所述电池片与所述研磨平台接触或分离;
所述移动组件固定安装在所述机架上;
所述移动组件的输出端与所述升降组件固定连接,所述移动组件用于控制所述升降组件进入和移出所述研磨平台正上方的区域,且所述升降组件通过移动组件固定在机架上。
通过采用上述技术方案,在研磨平台的外侧将待研磨的电池片固定在电池片载具上,然后控制移动组件使升降组件和电池片载具移动至研磨平台正上方,控制升降组件使电池片载具向研磨平台靠近,使电池片的底面与研磨平台接触,启动研磨平台,研磨平台对电池片进行研磨,从而去除电池片表面的线痕,减少线痕对后续制绒工艺的影响。研磨完成后,控制升降组件使电池片载具远离研磨平台,电池片与研磨平台分离,在控制移动组件,将电池片移出研磨平台上方,从电池片载具上取下完成研磨的电池片。
可选的,所述电池片载具为真空吸盘,所述真空吸盘与所述升降组件的输出端连接。
通过采用上述技术方案,真空吸盘产生的吸力使电池片的一侧表面被吸附在真空吸盘上,从而实现电池片的固定,方便对电池片的另一侧面进行研磨。
可选的,所述升降组件包括固定在所述移动组件上的第一气缸,所述第一气缸位于所述研磨平台上方,所述第一气缸的活塞杆与所述电池片载具固定连接,所述第一气缸的活塞杆垂直于所述研磨平台。
通过采用上述技术方案,第一气缸的活塞杆在垂直于研磨平台的方向上伸缩,随着活塞杆的伸缩,带动电池片载具的上下移动。通过控制第一气缸的活塞杆的伸缩来使电池片载具靠近和远离研磨平台。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的