[实用新型]单晶炉真空管道清洁系统

说明书

本实用新型公开了一种单晶炉真空管道清洁系统，包括：真空管道，所述真空管道连接在炉体和真空泵之间，所述真空管道上设有检修口，所述检修口处设有用于打开或关闭所述检修口的密封盖；进气管道，所述进气管道与所述真空管道连通，所述进气管道上设有调节装置，所述调节装置用于控制外界含氧气体是否流入所述进气管道。根据本实用新型的单晶炉真空管道清洁系统，采用自动清洁与手动人工清洁相结合的方式，对真空管道的清洁干净、彻底，解决了相关技术中清洁工作耗时耗力、效果不理想的技术问题。

技术领域

本实用新型涉及单晶炉技术领域，尤其是涉及一种单晶炉真空管道清洁系统。

背景技术

相关技术中，半导体单晶炉的真空管道清洁需要先拆卸真空管道，然后将真空管道每部分单独清理清扫，清洁后再把管道安装还原成完整的真空管道系统使用。清洁工作耗时耗力，效果不理想，很难达到直接结晶的要求，而且真空管道安装不规范容易造成真空泄漏，需要检查再安装，耽误生产，严重影响效率。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出了一种单晶炉真空管道清洁系统，采用自动清洁与手动人工清洁相结合的方式，对真空管道的清洁干净、彻底，解决了相关技术中清洁工作耗时耗力、效果不理想的技术问题。

根据本实用新型实施例的单晶炉真空管道清洁系统，包括：真空管道，所述真空管道连接在炉体和真空泵之间，所述真空管道上设有检修口，所述检修口处设有用于打开或关闭所述检修口的密封盖；进气管道，所述进气管道与所述真空管道连通，所述进气管道上设有调节装置，所述调节装置用于控制控制外界含氧气体是否流入所述进气管道。

根据本实用新型实施例的单晶炉真空管道清洁系统，在拉晶结束后，可控制调节装置打开，在真空管道内负压的作用下，外界含氧气体通过进气管道进入真空管道内，直至达到设定的压力状态，可以理解的是，在此过程中真空管道内的SiO及P等自燃物质在遇到干燥含氧气体后发生化学反应并自动燃烧，从而实现自动清洁，同时当自动清洁方案效果不佳时，可打开密封盖并通过检修口手动清理，操作简单，且在自动清洁之后再进行手动清理，有利于提高清洁效率和安全系数，从而有利于做到清洁无死角、保证清洁干净、彻底，进而解决了相关技术中清洁工作耗时耗力、效果不理想的技术问题。

在本实用新型的一些实施例中，所述调节装置包括电磁阀和流量计，所述电磁阀和所述流量计串联在所述进气管道上。

在本实用新型的一些实施例中，所述进气管道上设有过滤装置，所述过滤装置用于过滤流向所述进气管道内的含氧气体中的杂质。

在本实用新型的一些实施例中，所述真空管道包括三通管、第一配管、第二配管和第三配管，所述三通管具有第一接口、第二接口和第三接口，所述第一接口和所述第二接口分别通过所述第一配管和所述第二配管连接至所述炉体，所述第三接口通过所述第三配管连接至所述真空泵，所述进气管道包括三通装置、第一支管和第二支管，所述第一配管和所述第二配管分别通过所述第一支管和所述第二支管连接至所述三通装置以接通所述调节装置。

在本实用新型的一些实施例中，所述第一配管、所述第二配管、所述第三配管和所述三通管中的至少一个上设有工艺管，所述工艺管的自由端限定出所述检修口，所述密封盖与所述工艺管之间通过螺纹紧固件相连。

在本实用新型的一些实施例中，所述第一配管包括互成夹角设置的第一管段和第二管段，所述第一管段的一端与所述第一接口连通，所述第一管段的另一端与所述第二管段的一端连通，所述第二管段的另一端与所述炉体连通，其中，所述工艺管设在所述第一管段的另一端上且与所述第一管段同轴设置。

在本实用新型的一些实施例中，所述第二配管包括互成夹角设置的第三管段和第四管段，所述第三管段的一端与所述第二接口连通，所述第三管段的另一端与所述第四管段的一端连通，所述第四管段的另一端与所述炉体连通，其中，所述工艺管设在所述第三管段的另一端上且与所述第三管段同轴设置。