[发明专利]用于平视显示器（HUD）的具有p偏振辐射的投影装置

权利要求书

1.用于平视显示器（HUD）的投影装置，至少包括

- 挡风玻璃（10），其包括外玻璃板（1）和内玻璃板（2），所述外玻璃板（1）和内玻璃板（2）通过热塑性中间层（3）彼此连接，其具有HUD区域（B）；和

- 对准所述HUD区域（B）的HUD投影仪（4）；

其中

- HUD投影仪（4）的辐射主要是p偏振的，和

- 所述挡风玻璃（10）具有适合于反射p偏振辐射的反射涂层（20），

并且其中

- 所述反射涂层（20）具有恰好一个导电层（21），和

- 在所述导电层（21）的上方和下方布置有介电层序列，所述介电层序列由n个折射率小于1.8的光学低折射层（22）和(n+1)个折射率大于1.8的光学高折射层（21）构成，它们各自交替布置，其中n是大于或等于1的整数。

2.根据权利要求1所述的投影装置，其中具有反射涂层（20）的挡风玻璃（10）在450nm至650nm的光谱范围内对p偏振辐射的平均反射率为至少10％，优选至少15％，特别优选至少20％。

3.根据权利要求2所述的投影装置，其中在450nm至650nm的光谱范围内，在最大出现的反射率与反射率的平均值之间的差以及在最小出现的反射率与对p偏振辐射的反射率的平均值之间的差为最高5％，优选最高3％。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的投影装置，其中所述HUD投影仪（4）的辐射基本上是纯p偏振的。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的投影装置，其中所述HUD投影仪（4）的辐射以60°至70°的入射角射在所述挡风玻璃（10）上。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的投影装置，其中所述导电层（21）是基于银形成的。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的投影装置，其中所述导电层（21）具有最高15nm并且优选至少5nm的厚度。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的投影装置，其中所述光学低折射层（22）是基于氧化硅、氧化铝、镁萤石、氧氮化硅或钙萤石形成的，优选基于氧化硅形成的。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的投影装置，其中所述光学高折射层（23）是基于氮化硅、氧化锡锌、氮化硅锆、氧化锆、氧化铌、氧化铪、氧化钽、氧化钨、氧化钛、碳化硅或类金刚石碳（DLC）形成的，优选基于氮化硅形成的。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的投影装置，其中n等于1 。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的投影装置，其中所述反射涂层（20）包括以下层：

- 光学高折射层（23.a.1），其基于氮化硅、氧化锡锌、氮化硅锆或氧化钛，优选氮化硅，具有235 nm至355 nm，优选270 nm至320 nm的厚度，

- 在其上的光学低折射层（22.a），其基于二氧化硅，具有15 nm至30 nm，优选20至25nm的厚度，

- 在其上的光学高折射层（23.a.2），其基于氮化硅、氧化锡锌、氮化硅锆或氧化钛，优选氮化硅，具有165 nm至245 nm，优选185 nm至225 nm的厚度，

- 在其上的导电层 （21），

- 在其上的光学高折射层（23.b.1），其基于氮化硅、氧化锡锌、氮化硅锆或氧化钛，优选氮化硅，具有155 nm至235 nm，优选175 nm至215 nm的厚度，

- 在其上的光学低折射层（22.b），其基于二氧化硅，具有170 nm至255 nm，优选190至235 nm的厚度，

- 在其上的光学高折射层（23.b.2），其基于氮化硅、氧化锡锌、氮化硅锆或氧化钛，优选氮化硅，具有210 nm至315 nm，优选235 nm至290 nm的厚度。