[发明专利]自旋元件及储备池元件在审

专利信息
申请号: 202080001916.2 申请日: 2020-01-24
公开(公告)号: CN113632239A 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 滨中幸祐;佐佐木智生;盐川阳平 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: H01L29/82 分类号: H01L29/82;G06N3/063;H01L43/08
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦;陈明霞
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 自旋 元件 储备
【权利要求书】:

1.一种自旋元件,其特征在于,

具备:

配线;

层叠体,其层叠于所述配线上,包含第一铁磁性层;

第一导电部和第二导电部,从层叠方向俯视时,所述第一导电部和所述第二导电部夹着所述第一铁磁性层;以及

第一中间层,其在所述第一导电部和所述配线之间与所述配线相接,

构成所述第一中间层的第二元素相对于构成所述配线的第一元素的扩散系数比构成所述第一导电部的第三元素相对于所述第一元素的扩散系数小,

或者,

所述第三元素相对于所述第二元素的扩散系数比所述第三元素相对于所述第一元素的扩散系数小。

2.根据权利要求1所述的自旋元件,其特征在于,

所述第一元素、所述第二元素及所述第三元素是互不相同的元素,

所述第一元素是选自Au、Hf、Mo、Pt、W、Ta中的任一个,

所述第二元素是选自Co、Al、Ag、Au、Mo、Hf、Pt、W、Ta中的任一个,

所述第三元素是选自Ag、Cu、Co、Al、Au中的任一个。

3.一种自旋元件,其特征在于,

具备:

配线;

层叠体,其层叠于所述配线上,包含第一铁磁性层;

第一导电部和第二导电部,从层叠方向俯视时,所述第一导电部和所述第二导电部夹着所述第一铁磁性层;以及

第一中间层,其在所述第一导电部和所述配线之间与所述配线相接,

所述配线包含选自Au、Hf、Mo、Pt、W、Ta中的任一个作为第一元素,

所述第一中间层包含第二元素,

所述第一导电部包含第三元素,

在所述第一元素是Au且所述第三元素是Cu的情况下,所述第二元素是选自Ag、Co、Hf中的任一个,

在所述第一元素是Au且所述第三元素是Ag的情况下,所述第二元素是Co或Hf,

在所述第一元素是Au且所述第三元素是Co的情况下,所述第二元素是Hf,

在所述第一元素是Hf且所述第三元素是Co的情况下,所述第二元素是Al,

在所述第一元素是Mo且所述第三元素是Co的情况下,所述第二元素是W,

在所述第一元素是Pt且所述第三元素是Al的情况下,所述第二元素是选自Au、Ag、Co中的任一个,

在所述第一元素是Pt且所述第三元素是Au的情况下,所述第二元素是Ag或Co,

在所述第一元素是Pt且所述第三元素是Ag的情况下,所述第二元素是Co,

在所述第一元素是Ta且所述第三元素是Al的情况下,所述第二元素是Hf,

在所述第一元素是W且所述第三元素是Co的情况下,所述第二元素是选自Hf、Mo中的任一个,

在所述第一元素是Au且所述第三元素是Ag的情况下,所述第二元素是Pt,

在所述第一元素是Au且所述第三元素是Co的情况下,所述第二元素是选自Pt、Mo、W中的任一个,

在所述第一元素是Hf且所述第三元素是Co的情况下,所述第二元素是选自Au、Pt、Mo、W中的任一个,

在所述第一元素是Mo且所述第三元素是Co的情况下,所述第二元素是W,

在所述第一元素是Pt且所述第三元素是Al的情况下,所述第二元素是Ta或Hf,

在所述第一元素是Pt且所述第三元素是Co的情况下,所述第二元素是Mo或W,

在所述第一元素是Ta且所述第三元素是Al的情况下,所述第二元素是Hf。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的自旋元件,其特征在于,

所述第一中间层的周长比所述第一导电部的周长小,

从所述层叠方向俯视时,所述第一中间层内包于所述第一导电部。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的自旋元件,其特征在于,

所述第一中间层的周长比所述第一导电部的周长小,

从所述层叠方向俯视时,所述第一中间层的几何中心和所述第一铁磁性层的几何中心的距离比所述第一导电部的几何中心和所述第一铁磁性层的几何中心的距离短。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社,未经TDK株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080001916.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top