[发明专利]等离子处理装置以及等离子处理方法

权利要求书

1.一种等离子处理装置，其特征在于，具备：

处理室，其对样品进行等离子处理；

高频电源，其提供用于生成等离子的高频电力；和

控制装置，其执行控制，在该控制中进行第一处理，该第一处理在作为单个所述样品的等离子处理或多个所述样品的等离子处理的批次处理与批次处理之间的空闲的期间，使用由被脉冲调制的所述高频电力生成的等离子来使所述处理室的内壁的温度成为所期望的温度。

2.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，

所述控制装置执行控制，在该控制中，在所述第一处理后进行第二处理，该第二处理使所述处理室的内壁的温度成为比所述所期望的温度高的温度。

3.根据权利要求2所述的等离子处理装置，其特征在于，

作为所述被脉冲调制的高频电力与所述脉冲调制的占空比的积的平均高频电力是基于规定为所述批次处理的等离子处理条件的高频电力而求得的值。

4.根据权利要求3所述的等离子处理装置，其特征在于，

在所述第二处理中使用的用于生成等离子的高频电力与规定为所述批次处理的等离子处理条件的高频电力相同。

5.一种等离子处理方法，使用等离子在处理室对样品进行处理，所述等离子处理方法的特征在于具有：

第一工序，在作为单个所述样品的等离子处理或多个所述样品的等离子处理的批次处理与批次处理之间的空闲的期间，使用由被脉冲调制的所述高频电力生成的等离子来使所述处理室的内壁的温度成为所期望的温度。

6.根据权利要求5所述的等离子处理方法，其特征在于，

所述等离子处理方法在所述第一工序后还具有：

第二工序，使所述处理室的内壁的温度成为比所述所期望的温度高的温度。

7.根据权利要求6所述的等离子处理方法，其特征在于，

作为所述被脉冲调制的高频电力与所述脉冲调制的占空比的积的平均高频电力是基于规定为所述批次处理的等离子处理条件的高频电力而求得的值。

8.根据权利要求7所述的等离子处理方法，其特征在于，

在所述第二工序中使用的用于生成等离子的高频电力与规定为所述批次处理的等离子处理条件的高频电力相同。

9.根据权利要求8所述的等离子处理方法，其特征在于，

所述第二工序的时间比所述第一工序的时间短。