[发明专利]涂装体及涂布组合物

权利要求书

1.一种涂装体，其用于抑制附着于表面的霉菌及/或藻的繁殖，其特征为，

具有基材和形成于该基材上的表面层，

所述表面层含有萤石结构的具有氧缺陷的平均微晶直径为小于10nm的氧化铈粒子而构成，该氧化铈粒子在喇曼分光光谱中，归属于Ce-O结合的F_2g振动模式的峰值，相对于通过测定标准物质得到的归属于Ce-O结合的F_2g振动模式的峰值，向低波数侧偏离超过2cm^-1，

所述表面层抑制附着于所述涂装体的表面的霉菌及/或藻的繁殖，

所述标准物质是高纯度化学研究所制的型号为CEO04PB的纯度99.99％的氧化铈，其中，铈为IV价。

2.根据权利要求1所述的涂装体，其特征为，所述氧化铈粒子是在喇曼分光光谱中具有进一步归属于O₂^2-的峰值的氧化铈粒子。

3.根据权利要求1或2所述的涂装体，其特征为，在所述表面层被可见光照射的同时，所述涂装体暴露于霉菌胞子附着于其表面的环境而被使用。

4.根据权利要求3所述的涂装体，其特征为，具备可见光照射后的霉菌胞子的细胞膜损伤度小于10％，且可见光照射后的ATP值大于0RLU/cm²、小于1000RLU/cm²的特性，

所述ATP值为比例于利用组合基于荧光素酶的发光反应和丙酮酸磷酸双激酶的酶循环法的ATP、AMP总量的发光量。

5.根据权利要求3所述的涂装体，其特征为，可见光照射后的生存胞子率大于50％。

6.根据权利要求4所述的涂装体，其特征为，可见光照射后的生存胞子率大于50％。

7.根据权利要求1或2所述的涂装体，其特征为，在所述表面层被包括紫外线的光照射的同时，所述涂装体暴露于霉菌胞子附着于其表面的环境而被使用。

8.根据权利要求7所述的涂装体，其特征为，具备包括紫外线的光照射后的霉菌胞子的细胞膜损伤度小于50％，且包括紫外线的光照射后的ATP值大于0RLU/cm²、小于500RLU/cm²的特性，

所述ATP值为比例于利用组合基于荧光素酶的发光反应和丙酮酸磷酸双激酶的酶循环法的ATP、AMP总量的发光量。

9.根据权利要求7所述的涂装体，其特征为，包括紫外线的光照射后的生存胞子率大于50％。

10.根据权利要求8所述的涂装体，其特征为，包括紫外线的光照射后的生存胞子率大于50％。

11.根据权利要求1或2所述的涂装体，其特征为，所述表面层还含有硅粒子而构成。

12.根据权利要求1或2所述的涂装体，其特征为，在将覆盖膜形成成分的总量作为100质量份时，所述表面层中的所述氧化铈粒子的含量为1质量份以上。

13.根据权利要求1或2所述的涂装体，其特征为，所述表面层是所述霉菌及/或藻并不穿通层中的多孔质结构。