[发明专利]密封装置以及用于监测密封装置的方法

权利要求书

1.一种密封装置(10)，所述密封装置包括密封元件(1)和待密封的构件(2)，其中，所述密封元件(1)接纳在构件(2)上，使得在密封元件(1)与构件(2)之间存在接触应力，并且密封元件(1)具有接触表面(3)，所述密封元件以所述接触表面贴靠在构件(2)上，并且所述密封装置还包括测量装置(4)，以用于监测密封元件(1)的老化，其特征在于，在密封元件(1)和构件(2)中分别集成有测量装置(4)的至少一个测量部件，并且密封元件(1)的接触表面(3)具有带有多个凹部(5.1)的表面几何结构(5)，并且测量装置(4)检测在密封元件(1)加载有应力的状态下和在除去应力的状态下在密封元件(1)的测量部件(4.1)与构件(2)的测量部件(4.2)之间的距离(a)并且计算所述距离之差(Δa)，并且检测从密封元件(1)加载有应力的状态返回至除去应力的状态的时间(t)，以便根据所述距离之差(Δa)和所述时间(t)来监测密封元件(1)的老化。

2.根据权利要求1所述的密封装置，其特征在于，所述构件(2)的测量部件(4.2)以邻接于密封元件(1)的接触表面(3)的方式被集成到构件(2)中。

3.根据权利要求1或2所述的密封装置，其特征在于，所述密封元件(1)的测量部件(4.1)被构造为在密封元件(1)的体积中集成的结构。

4.根据权利要求3所述的密封装置，其特征在于，所述集成的结构是导电的或磁性的。

5.根据权利要求3所述的密封装置，其特征在于，所述集成的结构由密封元件(1)的材料在添加添加剂的情况下制成。

6.根据权利要求3所述的密封装置，其特征在于，在所述集成的结构与密封元件(1)的接触表面(3)之间存在隔离层。

7.根据权利要求6所述的密封装置，其特征在于，所述隔离层由密封元件(1)的材料制成。

8.根据权利要求3所述的密封装置，其特征在于，所述集成的结构被引入到表面几何结构(5)的各凹部(5.1)中。

9.根据权利要求1或2所述的密封装置，其特征在于，所述密封元件(1)的接触表面(3)位于高接触应力区域中。

10.根据权利要求1或2所述的密封装置，其特征在于，所述表面几何结构(5)以其各凹部(5.1)形成凸起、蜂窝、网格、凹槽或切口。

11.根据权利要求1或2所述的密封装置，其特征在于，将所述距离(a)的和/或所述距离之差(Δa)的和/或所述时间(t)的在密封装置(10)投入运行时所确定的值存储在测量装置(4)的数据存储器中。

12.根据权利要求11所述的密封装置，其特征在于，将所述距离(a)的和/或所述距离之差(Δa)的和/或所述时间(t)的当前确定的值与所存储的值进行比较。

13.根据权利要求12所述的密封装置，其特征在于，当存在高于阈值的偏差时，输出信号。

14.一种根据权利要求1至13中任一项所述的密封装置作为瓣阀中的瓣密封件的应用。