[发明专利]处理装置及处理方法

权利要求书

1.一种处理装置，其是对在包含硅及卤族元素的原料物质的反应或者包含硅的原料物质与包含卤族元素的原料物质的反应中产生的副产物进行处理的处理装置，其具备：

处理液罐，该处理液罐贮液有包含碱性的水溶液的处理液；

处理槽，该处理槽被投入包含所述副产物的被处理构件；

供给机构，该供给机构从所述处理液罐向所述处理槽供给所述处理液，通过所供给的所述处理液在所述处理槽中对所述副产物进行处理；以及

排气机构，该排气机构将通过所述处理液与所述副产物的反应而产生的气体从所述处理槽排气。

2.根据权利要求1所述的处理装置，其进一步具备检测关于所述处理槽中的所述处理液与所述副产物的所述反应的进行状况的参数的传感器。

3.根据权利要求1或2所述的处理装置，其进一步具备：

分散机构，该分散机构在所述处理槽的所述处理液中使所述副产物的块分散；

搅拌机构，该搅拌机构在所述处理槽中将所述处理液进行搅拌；以及

液循环机构，该液循环机构在所述处理槽中形成所述处理液循环的流动；

中的一个以上。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的处理装置，其进一步具备将在所述处理槽中与所述副产物反应后的所述处理液从所述处理槽排出的液排出机构。

5.一种处理方法，其是对在包含硅及卤族元素的原料物质的反应或者包含硅的原料物质与包含卤族元素的原料物质的反应中产生的副产物进行的处理方法，其包括：

将包含所述副产物的被处理构件投入处理槽中；

将包含碱性的水溶液的处理液积存于所述处理槽中；

通过所积存的所述处理液，在所述处理槽对所述副产物进行处理；以及

将通过所述处理液与所述副产物的反应而产生的气体从所述处理槽排气。

6.根据权利要求5所述的处理方法，其进一步包括：检测关于所述处理槽中的所述处理液与所述副产物的所述反应的进行状况的参数，基于所述参数的检测结果来判断所述副产物的处理的进行状况。

7.根据权利要求5或6所述的处理方法，其进一步包括：

与利用所述处理液进行的所述副产物的无害化并行地执行：

在所述处理槽的所述处理液中使所述副产物的块分散；

在所述处理槽中将所述处理液搅拌；以及

在所述处理槽中形成所述处理液循环的流动；

中的一个以上。

8.根据权利要求5至7中任一项所述的处理方法，其进一步包括将在所述处理槽中与所述副产物反应后的所述处理液从所述处理槽排出。