[发明专利]蒸镀源以及蒸镀装置有效
申请号: | 202080006222.8 | 申请日: | 2020-02-04 |
公开(公告)号: | CN113039306B | 公开(公告)日: | 2023-06-06 |
发明(设计)人: | 藤井严;菊地诚 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H05B33/10;H10K50/10 |
代理公司: | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人: | 魏彦 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蒸镀源 以及 装置 | ||
本发明提供一种能够长时间连续生产均匀的膜厚分布的薄膜的蒸镀源以及蒸镀装置。蒸镀源具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组。收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料。第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成,该第一喷嘴设置在收纳箱的一方向上的中央区域且具有第一喷嘴孔。第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成,该第二喷嘴设置在收纳箱的一方向上的比中央区域靠外方的各侧的侧方区域且具有第二喷嘴孔。分别位于收纳箱的一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比蒸镀对象物的上述一方向上的长度长,在第二喷嘴的射出蒸镀材料的气化物质的开口端中,一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于中央区域侧的部分距离假想基准面的高度低,所述假想基准面是与第二喷嘴孔的孔轴正交的面。
技术领域
本发明涉及一种具有对蒸镀对象物射出蒸镀材料的喷嘴的蒸镀源以及蒸镀装置。
背景技术
例如,在专利文献1中,公开了一种具有长条状的蒸镀源的蒸镀装置,该蒸镀源设置有对基板射出蒸镀材料的多个喷嘴。蒸镀源具有收纳蒸镀材料的收纳箱和多个喷嘴。
在专利文献1所记载的蒸镀装置中,为了抑制掩蔽效应(Mask effect)并获得均匀的膜厚分布的薄膜,以将位于蒸镀源的长度方向的两侧方区域各自的最外方的喷嘴之间的间隔设为比基板的宽度窄,并将分别位于蒸镀源的两侧方区域的多个喷嘴的孔轴向外方大幅倾斜的方式进行配置,进而,高密度地配置分别位于两侧方区域的多个喷嘴。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2018/025637号
发明内容
发明要解决的问题
在这种蒸镀装置中,期望一种能够相对于蒸镀对象物获得均匀的膜厚分布且能够长时间连续生产的蒸镀源。为了实现这种长时间连续生产,需要不产生喷嘴的堵塞,使蒸镀材料不劣化。
鉴于以上情况,本发明提供一种能够长时间连续生产均匀的膜厚分布的薄膜的蒸镀源以及蒸镀装置。
用于解决问题的手段
为了达成上述目的,本发明的一形态的蒸镀源具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组。
上述收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料。
上述第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成,该第一喷嘴设置在上述收纳箱的一方向上的中央区域且具有第一喷嘴孔,该第一喷嘴孔供朝向上述蒸镀对象物射出的上述蒸镀材料的气化物质通过。
上述第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成,该第二喷嘴设置在上述收纳箱的上述一方向上的比上述中央区域靠外方的各侧的侧方区域且具有第二喷嘴孔,该第二喷嘴孔供朝向上述蒸镀对象物射出的上述蒸镀材料的气化物质通过。
分别位于上述收纳箱的上述一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比上述蒸镀对象物的上述一方向上的长度长。
在上述第二喷嘴的射出上述蒸镀材料的气化物质的开口端中,上述一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于上述中央区域侧的部分距离上述假想基准面的高度低,上述假想基准面是与上述第二喷嘴孔的孔轴正交的面。
根据本发明的这样的结构,通过使用第二喷嘴,能够控制从第二喷嘴射出的蒸镀材料的射出角度,能够进行膜厚分布均匀的成膜。
也可以为,上述一方向上的位于外方侧的部分的端面位于比包含假想线的假想倾斜面靠上述蒸镀对象物侧的位置,上述假想线穿过上述第二喷嘴的开口端的内缘部中的位于上述中央区域侧的部分与上述一方向上的位于外方侧的部分,并在投影于上述假想基准面时沿着上述一方向,上述假想倾斜面相对于上述假想基准面以上述假想线与上述假想基准面所成的角度倾斜。
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