[发明专利]光连接器研磨用垫

说明书

本发明的一个实施方式提供一种消除研磨中的光连接器与研磨膜之间的空隙的研磨用垫。一个实施方式的研磨用垫在对具备光纤和套圈的光连接器的端面进行球面研磨时，配置于研磨盘与研磨片之间使用。一个实施方式的光连接器研磨用垫具有大于20％的回弹性。一个实施方式的光连接器研磨用垫可以由聚氨酯系原材料制成。

技术领域

本申请涉及光连接器的端面的研磨，更具体而言，涉及在对具备光纤和套圈(ferrule)的光连接器的端面进行球面研磨时使用的光连接器研磨用垫。

背景技术

以往，已知一种方法，在对具备光纤和套圈的光连接器的端面进行球面研磨的光连接器研磨中，在研磨盘上，在经由弹性体(在本说明书中称为“光连接器研磨用垫”，或仅称为“研磨用垫”。)使配置于研磨盘的研磨片(在本说明书中也称为“研磨膜”。)与光连接器的端面接触的状态下使研磨片与光连接器的端面相对地进行滑动旋转(例如，参照专利文献1、非专利文献1)。

以往，使用腈系橡胶(gum)制的研磨用橡胶(rubber)作为研磨用垫。

参照图1，对使用了以往的研磨用橡胶的光连接器研磨的概要进行说明。图1表示研磨中的光连接器等的剖面。在图1中，示出了具备光纤101和套圈102的光连接器100、研磨膜200以及作为研磨用橡胶的研磨用垫300。研磨用垫300配置于研磨盘(未图示)的主面(X－Y面)上。

研磨装置一边从光连接器100的上方在端面方向(Z轴方向)上施加研磨压力来维持使光连接器100的端面与研磨膜200接触的状态，一边使研磨膜200与光连接器100相对地进行滑动旋转。图1示出了相对于固定于研磨装置的光连接器100，研磨膜200向右方向(X轴方向)进行研磨运动的状态。在图1中，若认为研磨膜200处于静止状态，则光连接器100以端面的左端为前端，在研磨膜200上向左方向滑动。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007－185754号公报

非专利文献

非专利文献1：NTT尖端技术株式会社(NTT Advanced Technology Corporation)，“光连接器研磨机ATP-3200，ATP-3000”，[online][2019年8月19日检索]，因特网＜URL：https://keytech.ntt-at.co.jp/optic1/prd_0046.html＞

发明内容

近年来，随着光连接器的端面的污染和损伤以及对光反射衰减量的要求的提高，光连接器研磨中的研磨压力高压化。此外，在光连接器研磨的现场，由于工序时间缩短等原因，研磨压力提高到以往的数倍。

然而，以往的研磨用橡胶对于强的研磨压力，恢复力(回弹性)并不充分。如图1所示，当研磨用橡胶的恢复力不足时，在光连接器100的端面与研磨膜200之间会产生空隙。在图1中，光连接器100的端面的一部分(包括端面的左端的大致半面)是与研磨膜200密合的状态，光连接器100的端面的剩余的部分(包括端面的右端的大致半面)是不与研磨膜200接触的状态。特别是在近年的过密安装化(例如，将同时研磨的LC连接器从18端子增加至50端子)和与此相伴的高压化(例如，将研磨压力从100gf变更为500gf)的状况下，在某个连接器通过而形成的研磨轨迹凹陷而恢复至平面之前，下一个连接器从该研磨轨迹通过。

在该状态下，研磨膜200无法发挥规定的性能。更具体而言，这成为研磨时间变长的原因。或者，这成为灰尘进入在光连接器100的端面与研磨膜200之间产生的空隙而在光纤101的端面产生损伤的原因、产生光纤101的凹陷(光纤101从光连接器100的端面被引入的光纤引入)的原因。

本发明是鉴于这样的问题而完成的，因此本发明的一个实施方式的目的在于，提供一种消除研磨中的光连接器与研磨膜之间的空隙的研磨用垫。