[发明专利]用于溶剂和清洁应用的四元共沸和类共沸组合物

说明书

本专利申请提供了包含反式二氯乙烯和三种或更多种附加组分的四元共沸或类共沸组合物。还提供了在清洁、去焊、沉积和载液应用中使用本文提供的组合物的方法。

相关申请的交叉引用

本申请要求2019年1月4日提交的美国临时申请序列号62/788,481的权益，其公开内容以引用方式全文并入本文。

技术领域

本发明涉及包含反式二氯乙烯和三种或更多种附加组分的四元共沸或类共沸组合物。本文所述的组合物可用于例如清洁和去焊流体应用中。

背景技术

氯氟烃(CFC)和氢氟烃(HFC)化合物已广泛用于半导体制造领域中，以清洁表面诸如磁盘介质。然而，含氯化合物诸如CFC化合物对地球的臭氧层有害。此外，已发现许多用于替代CFC化合物的氢氟烃有助于全球变暖。因此，需要鉴定新的环境安全溶剂以用于清洁应用，诸如除去残余的助焊剂、润滑剂或油污染物、以及颗粒。还需要鉴定用于沉积含氟润滑剂以及用于将已在水性溶液中加工的基底干燥或脱水的新溶剂。

附图说明

图1示出了包含反式-1，2-二氯乙烯(t-DCE)、甲基全氟庚烯醚(MPHE)、1，1，2，2，3，3，4-七氟环戊烷(HFCP)和3重量％乙醇的组合物在组合物1的沸点(45℃；由星号指示)处的三元组成范围。

发明内容

本申请尤其提供组合物，该组合物包含：

i)反式-1，2-二氯乙烯；

ii)第二组分，所述第二组分选自氢氟烯烃、氢氟醚和氢氯氟烯烃；

iii)第三组分，所述第三组分为氢氟烃；以及

iv)第四组分，所述第四组分选自C_1-6醇、C_3-6酮、C_5-8链烷烃、C_3-6环烷烃和乙酸C_1-6烷基酯。

本申请还提供了用于溶解溶质的方法，该方法包括使所述溶质与足量的本文所述的组合物接触并且混合。

本申请还提供了一种清洁表面的方法，所述方法包括使本文所述的组合物与所述表面接触。

本申请还提供了一种用于从润湿基底的表面去除至少一部分水的方法，所述方法包括使所述基底与本文所述的组合物接触，并且然后使所述基底脱离与所述组合物的接触。

本专利申请还提供了在表面上沉积含氟润滑剂的方法，所述方法包括：

a)将含氟润滑剂和溶剂合并以形成润滑剂-溶剂组合，其中所述溶剂包含本文提供的组合物；

b)使所述润滑剂-溶剂组合与所述表面接触；以及

c)从所述表面蒸发所述溶剂以在所述表面上形成含氟润滑剂涂层。

除非另有定义，本文使用的所有技术和科学术语具有与本发明所属领域中的普通技术人员通常理解的相同的含义。本文描述了用于本发明中的方法和材料；另外，也可以使用本领域中已知的合适的方法和材料。所述材料、方法和示例仅为示例性，并非旨在为限制性的。本文提及的所有出版物、专利申请、专利、序列、数据库条目和其他参考文献全文以引用方式并入本文。如发生矛盾，以本说明书及其所包括的定义为准。

具体实施方式