[发明专利]化合物、酸产生剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及图案涂膜的制造方法在审
申请号: | 202080009299.0 | 申请日: | 2020-01-22 |
公开(公告)号: | CN113302179A | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
发明(设计)人: | 村井俊彦;藤田昌平;三宅惇哉;松井依纯;大塚香实 | 申请(专利权)人: | 株式会社艾迪科 |
主分类号: | C07C309/65 | 分类号: | C07C309/65;C07C309/73;C09K3/00;G03F7/004;G03F7/038 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 周欣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化合物 产生 组合 固化 制造 方法 图案 | ||
本发明的主要课题是提供酸产生感度与可得到颜色变化少的组合物的效果的平衡优异的化合物。本发明通过提供下述通式(A)所表示的化合物而解决上述课题。(关于式中的R1、R11、R12、R13、R14、R15、R16及R17、以及n,参照说明书。)R1优选为碳原子数为1~20的无取代或具有取代基的脂肪族烃基、或碳原子数为6~20的无取代或具有取代基的含芳香族烃的基团。
技术领域
本发明涉及适宜作为酸产生剂使用的化合物。
背景技术
酸产生剂是通过光等能量射线照射或加热处理等而产生酸的物质。
在专利文献1及专利文献2中,作为酸产生剂,公开了包含磺酸衍生物化合物的光酸产生剂或热酸产生剂。另外,在专利文献1及专利文献2中,记载了与利用由酸产生剂产生的酸通过聚合或交联等化学键的形成而相对于显影液的溶解性减少的负型抗蚀剂、利用酸的作用通过酯基或缩醛基的化学键的切断等而相对于显影液的溶解性增加的正型抗蚀剂等一起使用酸产生剂。另外,作为具体的用途,记载了半导体、外涂剂、涂料、粘接剂、油墨用途等。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2016-169173号公报
专利文献2:EP3412745(A1)
发明内容
发明所要解决的课题
然而,在将这些酸产生剂与负型抗蚀剂、正型抗蚀剂等树脂组合而制成树脂组合物来使用的情况下,存在有时树脂组合物产生颜色变化的课题。
本发明是鉴于上述课题而进行的,主要课题是提供酸产生感度与可得到颜色变化少的组合物的效果的平衡优异的化合物。
用于解决课题的手段
本发明人等为了解决上述课题而进行了深入研究,结果发现,具有包含萘环及肟酯结构的磺酸衍生物结构的化合物作为酸产生剂发挥功能,并且组合物及其固化物的颜色变化抑制效果优异。
本发明者等基于这些见解,完成本发明。
即,本发明提供下述通式(A)所表示的化合物(以下,有时称为化合物A。)。
[化学式1]
(式中,R1表示碳原子数为1~20的无取代或具有取代基的脂肪族烃基、碳原子数为6~20的无取代或具有取代基的含芳香族烃的基团或碳原子数为2~20的无取代或具有取代基的含杂环的基团,或者表示该脂肪族烃基、该含芳香族烃的基团或该含杂环的基团中的1个或2个以上亚甲基被选自下述组I中的二价的基团取代而得到的基团,
R2表示氢原子、卤素原子、硝基、氰基、碳原子数为1~20的无取代或具有取代基的脂肪族烃基、碳原子数为6~20的无取代或具有取代基的含芳香族烃的基团或碳原子数为2~20的无取代或具有取代基的含杂环的基团,或者表示该脂肪族烃基、该含芳香族烃的基团或该含杂环的基团中的1个或2个以上亚甲基被选自下述组I中的二价的基团取代而得到的基团,
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