[发明专利]用于识别光学显微镜法的参考焦平面的印刷盖玻片和载玻片

权利要求书

1.一种方法，所述方法包括：

识别印刷在盖玻片的表面或载玻片的表面上的基准标记；

使光学显微镜聚焦于所述基准标记以计算所述基准标记的焦距；以及

基于所述基准标记的所述焦距来计算限定所述盖玻片的所述表面或所述载玻片的所述表面的参考焦平面。

2.根据权利要求1所述的方法，其中将所述基准标记印刷在所述盖玻片的所述表面上，使得所述方法包括：

识别印刷在所述盖玻片的所述表面上的所述基准标记；以及

计算限定所述盖玻片的所述表面的所述参考焦平面。

3.根据权利要求2所述的方法，其中：

将所述基准标记印刷在所述盖玻片的相对于所述光学显微镜的目镜或相机的底表面上，使得所述底表面与样品接触；

限定所述盖玻片的所述表面的所述参考焦平面限定所述盖玻片的所述底表面；并且

限定所述盖玻片的所述底表面的所述参考焦平面进一步限定相对于所述光学显微镜的所述目镜或所述相机的所述样品的顶表面。

4.根据权利要求2所述的方法，所述方法还包括：

用所述光学显微镜扫描所述盖玻片以生成概览扫描；

基于所述概览扫描来识别印刷在所述盖玻片的所述表面上的多个基准标记；

基于所述概览扫描来计算印刷在所述盖玻片的所述表面上的基准标记的数量；以及

基于所述概览扫描来识别印刷在所述盖玻片上的所述多个基准标记中的每个基准标记的位置。

5.根据权利要求4所述的方法，其中计算限定所述盖玻片的所述表面的所述参考焦平面包括：

使所述光学显微镜聚焦于印刷在所述盖玻片上的所述多个基准标记中的每个基准标记以计算所述多个基准标记中的每个基准标记的焦距；

使所述多个基准标记中的每个基准标记的所述焦距与所述多个基准标记中的每个基准标记的对应位置匹配；以及

基于所述多个基准标记中的每个基准标记的所述对应焦距和位置来计算所述参考焦平面。

6.根据权利要求5所述的方法，其中计算所述参考焦平面还包括：

基于两个或更多个基准标记的焦距来内推所述两个或更多个基准标记之间的空间的焦距；以及

外推所述多个基准标记中的特定基准标记的所述焦距以估计围绕所述特定基准标记的区域的焦距。

7.根据权利要求5所述的方法，其中计算所述参考焦平面还包括：

识别所述多个基准标记中的三个基准标记；

识别所述三个基准标记中的每个基准标记的焦距；

识别所述三个基准标记中的每个基准标记相对于所述概览扫描的位置；以及

至少部分地基于所述三个基准标记中的每个基准标记的所述焦距和所述位置来将平面拟合到由所述三个基准标记限定的三角形。

8.根据权利要求5所述的方法，其中计算所述参考焦平面还包括：

识别所述多个基准标记中的四个或更多个基准标记；

基于所述四个或更多个基准标记中的每个基准标记的焦距和所述四个或更多个基准标记中的每个基准标记相对于所述概览扫描的位置来识别所述四个或更多个基准标记中的每个基准标记的坐标(x,y,z)；以及

将弯曲表面拟合到由所述四个或更多个基准标记中的每个基准标记的所述(x,y,z)坐标限定的点以生成与所述盖玻片的整个表面近似的表面拓扑结构。

9.根据权利要求2所述的方法，其中将所述基准标记印刷在所述盖玻片的相对于所述光学显微镜的目镜或相机的底表面上，使得所述底表面与样品接触，并且其中所述方法还包括：

基于所述光学显微镜在一个或多个基准标记上的所述聚焦的结果来计算离所述样品的预测的焦距；以及

通过测试大于离所述样品的所述预测的焦距和/或小于离所述样品的所述预测的焦距的焦距阈值范围来精化所述样品上的聚焦。