[发明专利]在非所要衍射级存在的情况下的散射测量建模

权利要求书

1.一种计量系统，其包括：

控制器，所述控制器包含一或多个处理器，所述一或多个处理器经配置以执行程序指令以引起所述一或多个处理器：

接收用于基于选定波长范围内的来自散射测量工具的光谱散射测量数据的回归来测量包含以选定图案分布的一或多个特征的目标的一或多个选定属性的模型；

产生所述模型的加权函数来使与其中预测由所述散射测量工具在测量所述目标时捕获的光包含一或多个非所要衍射级的所述选定波长范围内的一或多个波长相关联的所述光谱散射测量数据的部分去加重；

指导所述光谱散射测量工具产生所述选定波长范围内的一或多个测量目标的散射测量数据，其中所述一或多个测量目标包含以所述选定图案分布的制造特征；及

基于所述一或多个测量目标的所述散射测量数据回归到由所述加权函数加权的所述模型来测量所述一或多个测量目标的所述一或多个选定属性。

2.根据权利要求1所述的计量系统，其中产生加权函数包括：

基于一或多个修改节距参考目标的散射测量数据的回归来测量一或多个修改节距参考目标的所述一或多个选定属性，其中所述一或多个修改节距参考目标包含以所述选定图案分布的特征，其中特征之间的间隔经按比例调整使得由所述散射测量工具在测量所述一或多个修改节距参考目标时捕获的光被预测包含所述选定波长范围内的单个衍射级；

确定所述一或多个修改节距参考目标的所述散射测量数据与所述模型之间的修改节距残差；

基于一或多个测试节距参考目标的散射测量数据的回归来测量一或多个测试节距参考目标的所述一或多个选定属性，其中所述一或多个测试节距参考目标包含以所述选定图案分布的特征，其中所述一或多个测试节距参考目标的特征之间的间隔对应于所述一或多个测量目标的特征之间的间隔；

确定所述一或多个大节距参考目标的所述散射测量数据与所述模型之间的测试节距残差；

基于所述修改节距残差与所述大节距残差之间的比率的绝对值来产生所述加权函数。

3.根据权利要求2所述的计量系统，其中所述加权函数(W(λ))包括：

其中R_MP(λ)表示所述修改节距残差，R_TP(λ)表示所述测试节距残差，且λ表示所述选定波长范围内的波长。

4.根据权利要求2所述的计量系统，其中使用用于确定所述修改节距残差的加权方案来确定所述测试节距残差。

5.根据权利要求2所述的计量系统，其中使用均匀加权方案来确定所述测试节距残差。

6.根据权利要求2所述的计量系统，其中所述一或多个修改节距参考目标包括：

两个或更多个修改节距参考目标，其中所述波长范围内的特定波长处的所述修改节距残差的值包括：

与所述特定波长处的所述两个或更多个修改节距参考目标相关联的两个或更多个残差的平均值。

7.根据权利要求2所述的计量系统，其中所述一或多个测试节距参考目标包括：

两个或更多个测试节距参考目标，其中所述波长范围内的特定波长处的所述测试节距残差的值包括：

与所述特定波长处的所述两个或更多个测试节距参考目标相关联的两个或更多个残差的平均值。

8.根据权利要求1所述的计量系统，其中产生加权函数包括：

估计与所述一或多个非所要衍射级中的每一者相关联的捕获强度；

估计与所述非所要衍射级中的每一者的所述捕获强度相关联的总污染强度；及

基于所述总污染强度来产生所述加权函数。

9.根据权利要求8所述的计量系统，其中所述加权函数(W(λ))包括：

其中I_C,TOT(λ)表示所述总污染强度，I₀(λ)表示参考强度，λ表示所述选定波长范围内的波长，且n₀及n₁表示界限参数。