[发明专利]全息记录组合物、全息记录介质、全息图、以及使用该全息图的光学装置和光学部件在审
申请号: | 202080009876.6 | 申请日: | 2020-01-29 |
公开(公告)号: | CN113316746A | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
发明(设计)人: | 大江贵裕;原援又;川崎健志郎;五十岚絵里 | 申请(专利权)人: | 索尼集团公司 |
主分类号: | G03H1/02 | 分类号: | G03H1/02;C08F2/44;G11B7/24044 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 王玉双 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 全息 记录 组合 介质 全息图 以及 使用 光学 装置 部件 | ||
1.一种全息记录组合物,其至少含有:自由基聚合性单体、基质树脂、光聚合引发剂和蒽类化合物。
2.根据权利要求1所述的全息记录组合物,其中所述自由基聚合性单体是单官能单体和多官能单体。
3.根据权利要求1所述的全息记录组合物,其中所述自由基聚合性单体的折射率为1.6以上。
4.根据权利要求1所述的全息记录组合物,其中所述自由基聚合性单体是选自由咔唑类单体、芴类单体和二萘并噻吩类单体所组成的群组中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的全息记录组合物,其中所述自由基聚合性单体是由以下通式(1-10)表示的化合物:
在通式(1-10)中,X1为氧原子、氮原子、磷原子、碳原子或硅原子,在X1为氧原子的情况下,a为0,在X1为氮原子或磷原子的情况下,a为1,在X1为碳原子或硅原子的情况下,a为2;
Y1和Y2各自为苯环或萘环,并且Y1和Y2不同时为苯环,在Y1或Y2为苯环的情况下,与所述苯环Y1或Y2对应的b或c为4,在Y1和/或Y2为萘环的情况下,与所述萘环Y1和/或Y2对应的b和/或c为6;
R1至R3各自为氢原子或由*-Z1(R4)d(*表示键合位置)表示的取代基,在R1至R3各自存在多个的情况下,多个R1至R3可以彼此相同或不同,但该通式(1-10)中全部的R1至R3不同时为氢原子;
Z1表示单键、二价以上的饱和烃基或二价以上的不饱和烃基,并且该饱和烃基或不饱和烃基可以含有醚键和/或硫醚键,在Z1为单键的情况下,d为1,在Z1为饱和烃基或不饱和烃基的情况下,d为1以上的整数;
R4表示氢原子或聚合性取代基,在R4存在多个的情况下,多个R4可以彼此相同或不同,但该通式(1-10)中全部的R4不同时为氢原子。
6.根据权利要求1所述的全息记录组合物,其进一步含有无机微粒。
7.根据权利要求1所述的全息记录组合物,其进一步含有阳离子聚合性化合物。
8.根据权利要求1所述的全息记录组合物,其中所述阳离子聚合性化合物是选自由环氧化合物和氧杂环丁烷化合物所组成的群组中的至少一种。
9.根据权利要求1所述的全息记录组合物,其进一步含有阻聚剂。
10.一种全息记录介质,所述全息记录介质包括光固化树脂层,所述光固化树脂层至少含有自由基聚合性单体、基质树脂、光聚合引发剂和蒽类化合物。
11.根据权利要求10所述的全息记录介质,其中所述自由基聚合性单体是单官能单体和多官能单体。
12.根据权利要求10所述的全息记录介质,其中所述自由基聚合性单体的折射率为1.6以上。
13.根据权利要求10所述的全息记录介质,其中所述自由基聚合性单体是选自由咔唑类单体、芴类单体和二萘并噻吩类单体所组成的群组中的至少一种。
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