[发明专利]多晶硅块状物、其包装体及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202080010371.1 申请日: 2020-01-21
公开(公告)号: CN113348149A 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: 崎田学 申请(专利权)人: 株式会社德山
主分类号: C01B33/02 分类号: C01B33/02;C01B33/035;B65D81/18
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 吕琳;朴秀玉
地址: 日本山口*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 多晶 块状 包装 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种多晶硅块状物包装体,其特征在于,

所述多晶硅块状物包装体是表面金属浓度为1000pptw以下的多晶硅块状物填充于树脂袋中的包装体,存在于所述包装体内部的硝酸根离子量为相对于将包装体放置在25℃、1大气压下时所形成的多晶硅块状物的填充空隙成为50μg/L以下的量。

2.根据权利要求1所述的多晶硅块状物包装体,其中,

存在于包装体内部的氟离子量为相对于将包装体放置在25℃、1大气压下时所形成的多晶硅块状物的填充空隙成为50μg/L以下的量。

3.根据权利要求1所述的多晶硅块状物包装体,其是将表面金属浓度为1000pptw以下、且表面硝酸根离子量为1.0×10-4μg/mm2以下的多晶硅块状物填充于树脂袋中而成的。

4.根据权利要求3所述的多晶硅块状物包装体,其中,

存在于多晶硅块状物的块表面的氟离子量为1.0×10-4μg/mm2以下。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的多晶硅块状物包装体,其中,

填充有多晶硅块状物的树脂袋的填充空隙率为40%~70%。

6.一种多晶硅块状物,其表面金属浓度为1000pptw以下,且表面硝酸根离子量为1.0×10-4μg/mm2以下。

7.根据权利要求6所述的多晶硅块状物,其中,

进一步地,表面氟离子量为1.0×10-4μg/mm2以下。

8.一种多晶硅块状物的制造方法,其特征在于,

所述制造方法是制造权利要求6所述的多晶硅块状物的方法,

其中,将利用氢氟酸硝酸水溶液进行了酸洗的多晶硅块状物清洗体在100℃以上的加热温度下干燥。

9.一种多晶硅块状物包装体的制造方法,其特征在于,

所述制造方法是制造权利要求1所述的多晶硅块状物包装体的方法,

其中,在将由权利要求8所述的方法得到的多晶硅块状物包装于树脂袋中时,以存在于包装体内部的硝酸根离子量相对于将包装体放置在25℃、1大气压下时所形成的多晶硅块状物的填充空隙成为50μg/L以下的填充量填塞。

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