[发明专利]多晶硅块状物、其包装体及其制造方法在审
申请号: | 202080010371.1 | 申请日: | 2020-01-21 |
公开(公告)号: | CN113348149A | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
发明(设计)人: | 崎田学 | 申请(专利权)人: | 株式会社德山 |
主分类号: | C01B33/02 | 分类号: | C01B33/02;C01B33/035;B65D81/18 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;朴秀玉 |
地址: | 日本山口*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多晶 块状 包装 及其 制造 方法 | ||
1.一种多晶硅块状物包装体,其特征在于,
所述多晶硅块状物包装体是表面金属浓度为1000pptw以下的多晶硅块状物填充于树脂袋中的包装体,存在于所述包装体内部的硝酸根离子量为相对于将包装体放置在25℃、1大气压下时所形成的多晶硅块状物的填充空隙成为50μg/L以下的量。
2.根据权利要求1所述的多晶硅块状物包装体,其中,
存在于包装体内部的氟离子量为相对于将包装体放置在25℃、1大气压下时所形成的多晶硅块状物的填充空隙成为50μg/L以下的量。
3.根据权利要求1所述的多晶硅块状物包装体,其是将表面金属浓度为1000pptw以下、且表面硝酸根离子量为1.0×10-4μg/mm2以下的多晶硅块状物填充于树脂袋中而成的。
4.根据权利要求3所述的多晶硅块状物包装体,其中,
存在于多晶硅块状物的块表面的氟离子量为1.0×10-4μg/mm2以下。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的多晶硅块状物包装体,其中,
填充有多晶硅块状物的树脂袋的填充空隙率为40%~70%。
6.一种多晶硅块状物,其表面金属浓度为1000pptw以下,且表面硝酸根离子量为1.0×10-4μg/mm2以下。
7.根据权利要求6所述的多晶硅块状物,其中,
进一步地,表面氟离子量为1.0×10-4μg/mm2以下。
8.一种多晶硅块状物的制造方法,其特征在于,
所述制造方法是制造权利要求6所述的多晶硅块状物的方法,
其中,将利用氢氟酸硝酸水溶液进行了酸洗的多晶硅块状物清洗体在100℃以上的加热温度下干燥。
9.一种多晶硅块状物包装体的制造方法,其特征在于,
所述制造方法是制造权利要求1所述的多晶硅块状物包装体的方法,
其中,在将由权利要求8所述的方法得到的多晶硅块状物包装于树脂袋中时,以存在于包装体内部的硝酸根离子量相对于将包装体放置在25℃、1大气压下时所形成的多晶硅块状物的填充空隙成为50μg/L以下的填充量填塞。
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