[发明专利]晶体二氧化硅的螯合在审

专利信息
申请号: 202080012056.2 申请日: 2020-01-30
公开(公告)号: CN113423664A 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: J·U·齐利斯;M·凯勒曼;P·佩兹-马莱茨 申请(专利权)人: 夸兹沃克公司
主分类号: C01B33/18 分类号: C01B33/18
代理公司: 上海一平知识产权代理有限公司 31266 代理人: 徐迅;高一平
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 晶体 二氧化硅
【权利要求书】:

1.一种处理晶体二氧化硅的方法,其特征在于,所述方法包括将晶体二氧化硅与0.05-1.00%重量的选自下组的物质一起研磨:多元醇、高岭土、铝醇盐,或其组合。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述晶体二氧化硅在研磨后的d50晶粒尺寸为0.2-90μm;优选地,0.3-10μm;和/或所述晶体二氧化硅在研磨后的d90晶粒尺寸为1-300μm;优选地,1-15μm。

3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述多元醇选自下组:甘油、聚乙二醇、丙二醇,或其混合物和共聚物。

4.如权利要求1-3中任一项所述的方法,其特征在于,所述多元醇的摩尔质量为90-50000g/mol。

5.如权利要求1-4中任一项所述的方法,其特征在于,所述晶体二氧化硅的晶体比例至少为70%。

6.如权利要求1-5中任一项所述的方法,其特征在于,所述晶体二氧化硅选自下组:石英、方石英、鳞石英。

7.如权利要求1-6中任一项所述的方法,其特征在于,所述处理降低晶体二氧化硅的细胞毒性和促炎潜能。

8.一种晶体二氧化硅制剂,其特征在于,所述制剂包括晶体二氧化硅和0.05-1.00重量%的选自下组的物质:多元醇、铝醇盐、高岭土,或其组合。

9.如权利要求8所述的晶体二氧化硅制剂,其特征在于,所述制剂包含至少97%重量的二氧化硅。

10.如权利要求8或9所述的晶体二氧化硅制剂,其特征在于,所述制剂包括结晶比例至少70%的二氧化硅。

11.如权利要求8、9或10所述的晶体二氧化硅制剂,其特征在于,所述晶体二氧化硅的d50晶粒尺寸为0.2-90μm,优选地0.3-10μm。

12.一种多元醇用于降低晶体二氧化硅细胞毒性和促炎潜能的用途。

13.一种高岭土用于降低晶体二氧化硅细胞毒性和促炎潜能的用途。

14.一种铝醇盐用于降低晶体二氧化硅细胞毒性和促炎潜能的用途。

15.一种可通过权利要求1-7中任一项所述的方法获得的晶体二氧化硅制剂。

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