[发明专利]带粘合剂层的防反射膜、自发光型显示装置及其制造方法在审
申请号: | 202080012326.X | 申请日: | 2020-01-23 |
公开(公告)号: | CN113383048A | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
发明(设计)人: | 长田润枝;外山雄祐;仲野武史;森本有 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | C09J4/02 | 分类号: | C09J4/02;C09J11/06;C09J133/00;C09J183/04;H05B33/02;H01L51/50;G02B1/113;G02B5/22;H01L27/32;C09J7/38 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王利波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 粘合剂 反射 发光 显示装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种带粘合剂层的防反射膜,其在防反射膜的至少一面具有粘合剂层,
其中,基于相对于无碱玻璃以300mm/分的速度进行90度剥离而测定的粘合剂层的初始粘接力为5N/25mm以下。
2.根据权利要求1所述的膜,其用于自发光型显示装置。
3.根据权利要求1或2所述的膜,其中,
所述粘合剂层在380nm~780nm的透光率为20~85%。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的膜,其中,
所述粘合剂层含有丙烯酸类聚合物作为基础聚合物。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的膜,其中,
所述防反射膜及粘合剂层中的至少一者包含紫外线吸收剂,所述粘合剂层在380nm的透光率为70%以下。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的膜,其中,所述粘合剂层是由粘合剂组合物形成的层,所述粘合剂组合物包含:
基础聚合物、
光固化剂、
在380nm波长下的摩尔吸光系数为15[L mol-1cm-1]以上的光聚合引发剂、以及
任选含有的敏化剂。
7.根据权利要求6所述的膜,其中,
所述粘合剂层能够通过照射380nm以上且450nm以下的波长范围的活性能量射线而固化。
8.根据权利要求6或7所述的膜,其中,
基于相对于无碱玻璃以300mm/分的速度进行90度剥离而测定的所述粘合剂层在光固化后的粘接力为5N/25mm以上。
9.根据权利要求6~8中任一项所述的膜,其中,
所述基础聚合物含有丙烯酸类聚合物,
所述光固化剂含有多官能(甲基)丙烯酸酯,
所述光聚合引发剂包含选自肟类化合物、茂金属类化合物、酰基膦类化合物、及氨基苯乙酮化合物中的至少一种。
10.根据权利要求9所述的膜,其中,
所述丙烯酸类聚合物含有含羟基单体及含氮单体作为单体成分。
11.根据权利要求6~10中任一项所述的膜,其中,
相对于所述基础聚合物100重量份,所述粘合剂组合物包含所述光固化剂1~50重量份、所述光聚合引发剂0.01~3重量份、及所述敏化剂0~10重量份。
12.根据权利要求1~5中任一项所述的膜,其中,
所述粘合剂层包含基础聚合物、及具有硅氧烷骨架的有机硅低聚物。
13.根据权利要求12所述的膜,其中,
基于相对于无碱玻璃以300mm/分的速度进行90度剥离而测定的所述粘合剂层在60℃下24小时后的粘接力为5N/25mm以上。
14.根据权利要求12或13所述的膜,其中,
相对于所述基础聚合物100重量份,所述粘合剂层包含所述有机硅低聚物1~20重量份,
所述有机硅低聚物的Tg为-70℃以上且30℃以下、侧链的有机硅官能团当量为1000~20000g/mol、重均分子量Mw为10000以上且300000以下。
15.根据权利要求12~14中任一项所述的膜,其中,
所述有机硅低聚物包含具有聚有机硅氧烷骨架的单体、及均聚物的玻璃化转变温度为-70℃以上且180℃以下的单体作为单体成分,
所述基础聚合物包含(甲基)丙烯酸烷基酯80重量%以上、及选自含羧基单体及含氮单体中的至少一种极性单体0~20重量%作为单体成分。
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