[发明专利]有机化合物的制造方法

权利要求书

1.一种式(1)所示的化合物的制造方法：

式(1)中，

X表示-O-、具有或不具有取代基的亚胺基、或-S-，

R¹表示氢原子、或者具有或不具有1个以上的取代基的烃基，且R²表示氢原子或1价有机基团；或者，R¹和R²与它们各自相邻的X和1个碳原子一起形成具有或不具有1个以上的取代基的杂环，

R³表示氢原子或1价有机基团，和

R⁴为-CF₂CH₃或-CH₂CHF₂，

所述制造方法包括：

使式(2)所示的化合物在光照射下与偏二氟乙烯反应的步骤A：

式(2)中的标记与前述表示相同含义。

2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，X为-O-。

3.根据权利要求1或2所述的制造方法，其中，

R¹为：

氢原子、或者

具有或不具有1个以上的取代基的烷基、或者

具有或不具有1个以上的取代基的芳基或杂芳基。

4.根据权利要求3所述的制造方法，其中，

R¹为：氢原子；或者各自具有或不具有选自酮基、次氮基、硝基、卤基、芳基、-SO₂R、-SOR、-OP(＝O)(OR)₂和-OR中的1个以上的取代基的烷基或芳基，且

R在每次出现时相同或不同，为氢原子、烷基或芳基。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的制造方法，其中，

R²为：

氢原子；或者

具有或不具有1个以上的取代基的烷基；或者

具有或不具有1个以上的取代基的芳基。

6.根据权利要求5所述的制造方法，其中，

R²为：氢原子；或者具有或不具有选自酮基、次氮基、硝基、卤基、芳基、-SO₂R、-SOR、-OP(＝O)(OR)₂和-OR中的1个以上的取代基的烷基或芳基，且

R在每次出现时相同或不同，为氢原子、烷基或芳基。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的制造方法，其中，R¹和R²与它们各自相邻的X和1个碳原子一起形成具有或不具有1个以上的取代基的杂环。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的制造方法，其中，

R³为：

氢原子、

烃基、或

烃氧基。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的制造方法，其中，R⁴为-CF₂CH₃或-CH₂CHF₂。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的制造方法，其中，将偏二氟乙烯中的至少一部分以含有它的微细气泡的形态导入含有所述式(2)所示的化合物的液体中。

11.根据权利要求10所述的制造方法，其中，所述微细气泡的形态是具有5nm～100μm的范围内的粒径的泡的个数相对于所述气体的泡的全部个数的比例为90％以上的形态。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的制造方法，其中，含有偏二氟乙烯的气体的体积相对于含有所述式(2)所示的化合物的液体的体积的比在0.01～1的范围内。