[发明专利]氧化物烧结体、溅射靶及溅射靶的制造方法

权利要求书

1.一种氧化物烧结体，其特征在于，

所述氧化物烧结体的表面的维氏硬度的平均值超过500Hv、小于900Hv。

2.一种溅射靶，其特征在于，

包含权利要求1所述的氧化物烧结体。

3.如权利要求2所述的溅射靶，其特征在于，

所述氧化物烧结体包含铟元素、锡元素及锌元素。

4.如权利要求3所述的溅射靶，其特征在于，

所述氧化物烧结体还包含X元素，

X元素是从由锗元素、硅元素、钇元素、锆元素、铝元素、镁元素、镱元素及镓元素构成的组中选择的至少1种以上的元素。

5.如权利要求3或4所述的溅射靶，其特征在于，

所述氧化物烧结体满足以下述式(1)、(2)及(3)表示的原子组成比的范围，

0.40≤Zn/(In+Sn+Zn)≤0.80…(1)

0.15≤Sn/(Sn+Zn)≤0.40…(2)

0.10≤In/(In+Sn+Zn)≤0.35…(3)。

6.如权利要求2～5的任一项所述的溅射靶，其特征在于，

所述氧化物烧结体包含以In₂O₃(ZnO)_m表示的六方晶层状化合物及以Zn_2-xSn_1-yIn_x+yO₄表示的尖晶石结构化合物，其中m＝2～7，0≤x＜2，0≤y＜1。

7.一种溅射靶的制造方法，用于制造如权利要求2～6的任一项所述的溅射靶，其特征在于，包括：

对所述氧化物烧结体的原料进行造粒，获得粒径为25μm以上、150μm以下的原料造粒粉的工序；

将所述原料造粒粉填充到模具内，使填充在所述模具内的所述原料造粒粉成形来得到成形体的工序；

对所述成形体以1310℃以上、1440℃以下进行烧结的工序。

8.如权利要求7所述的溅射靶的制造方法，其特征在于，

所述原料造粒粉的粒径为25μm以上、75μm以下。