[发明专利]氧化物烧结体、溅射靶及溅射靶的制造方法在审
申请号: | 202080013869.3 | 申请日: | 2020-02-13 |
公开(公告)号: | CN113423860A | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 海上晓 | 申请(专利权)人: | 出光兴产株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C04B35/453 |
代理公司: | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人: | 陈亦欧;毛立群 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化物 烧结 溅射 制造 方法 | ||
1.一种氧化物烧结体,其特征在于,
所述氧化物烧结体的表面的维氏硬度的平均值超过500Hv、小于900Hv。
2.一种溅射靶,其特征在于,
包含权利要求1所述的氧化物烧结体。
3.如权利要求2所述的溅射靶,其特征在于,
所述氧化物烧结体包含铟元素、锡元素及锌元素。
4.如权利要求3所述的溅射靶,其特征在于,
所述氧化物烧结体还包含X元素,
X元素是从由锗元素、硅元素、钇元素、锆元素、铝元素、镁元素、镱元素及镓元素构成的组中选择的至少1种以上的元素。
5.如权利要求3或4所述的溅射靶,其特征在于,
所述氧化物烧结体满足以下述式(1)、(2)及(3)表示的原子组成比的范围,
0.40≤Zn/(In+Sn+Zn)≤0.80…(1)
0.15≤Sn/(Sn+Zn)≤0.40…(2)
0.10≤In/(In+Sn+Zn)≤0.35…(3)。
6.如权利要求2~5的任一项所述的溅射靶,其特征在于,
所述氧化物烧结体包含以In2O3(ZnO)m表示的六方晶层状化合物及以Zn2-xSn1-yInx+yO4表示的尖晶石结构化合物,其中m=2~7,0≤x<2,0≤y<1。
7.一种溅射靶的制造方法,用于制造如权利要求2~6的任一项所述的溅射靶,其特征在于,包括:
对所述氧化物烧结体的原料进行造粒,获得粒径为25μm以上、150μm以下的原料造粒粉的工序;
将所述原料造粒粉填充到模具内,使填充在所述模具内的所述原料造粒粉成形来得到成形体的工序;
对所述成形体以1310℃以上、1440℃以下进行烧结的工序。
8.如权利要求7所述的溅射靶的制造方法,其特征在于,
所述原料造粒粉的粒径为25μm以上、75μm以下。
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