[发明专利]用于基于光刻进行三维部件的生成性制造的方法

权利要求书

1.一种用于基于光刻进行三维部件（3）的生成性制造的方法，其中由辐照装置发射的电磁辐射相继地聚焦到材料内的焦点（5）上，由此借助于多光子吸收分别固化所述材料的位于所述焦点（5）处的体积元件，其中在所述辐照装置的写区域（4）中由体积元件分别构建子结构（6），

其特征在于，

所述部件的构建包括如下步骤：

a）将多个子结构（6）并排地布置，然后

b）将子结构（6）相叠地布置，使得上部子结构（6）桥接彼此并排布置的下部子结构（6）之间的界面（7）。

2.根据权利要求1所述的方法，

其特征在于，

所述部件包括多个叠置的层（10），所述多个叠置的层分别由多个并排布置的子结构（6）形成，其中所述部件（6）逐层地构建，其中上层（10）的子结构桥接在直接在其下方的层（10）的彼此邻接的子结构（6）之间的界面（7）。

3.根据权利要求2所述的方法，

其特征在于，

叠置的层（10）之间的界面（11）构成为连续平坦的。

4.根据权利要求1或2所述的方法，

其特征在于，

叠置的子结构（6）之间的界面（11）阶梯式地构成。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，

其特征在于，

通过改变所述辐照装置相对于材料的相对位置使所述辐照装置的写区域（4）横向于所述辐照装置的进入方向（2）移动，以便在构建子结构（6）之后构建下一个位于其旁边的子结构（6）。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，

其特征在于，

在界面（7）处彼此邻接的两个下部子结构（6）分别与桥接该界面（7）的上部子结构（6）重叠至少10%，优选至少30%，特别优选至少40%，尤其是50%。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，

其特征在于，

所述子结构（6）和/或层（10）的厚度为小于100μm，优选小于50μm，优选小于30μm，特别是小于10μm。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，

其特征在于，

所述材料存在于材料载体上，如例如在盆中，并且从下方通过对于辐射至少分区域可透射的材料载体对材料进行照射。

9.根据权利要求8所述的方法，

其特征在于，

与材料载体间隔地定位构建平台并且通过固化位于所述构建平台和所述材料载体之间的材料在构建平台上构建所述部件。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，

其特征在于，

所述焦点（5）的体积在部件的构建期间改变至少一次，使得所述部件（3）由不同体积的固化体积元件构建。

11.根据权利要求10所述的方法，

其特征在于，

所述焦点体积在至少一个、优选地两个、尤其是在三个彼此垂直的空间方向上变化。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的方法，

其特征在于，

电磁辐射借助偏转单元来偏转，以便在基本上垂直于进入方向（2）伸展的平面中在所述写区域（4）内调整所述焦点（5）。

13.一种三维部件（3），其通过根据权利要求1至12中任一项所述方法制造。