[发明专利]偏振膜的制造方法

权利要求书

1.一种偏振膜的制造方法，该偏振膜在起偏镜的至少一面经由粘接剂层设置有透明保护膜，该方法包括：

一边运送所述起偏镜一边在所述起偏镜的贴合面涂敷含有20～85质量％的SP值为21.0(MJ/m³)^1/2以上且26.0(MJ/m³)^1/2以下的聚合性化合物X的易粘接组合物而形成第1涂膜的第1涂敷工序；

一边运送所述透明保护膜一边在所述透明保护膜的贴合面涂敷含有所述聚合性化合物X的粘接剂组合物而形成第2涂膜的第2涂敷工序；

对所述第1涂膜及所述第2涂膜的厚度进行在线测定的厚度测定工序；

基于通过所述在线测定得到的所述第1涂膜及所述第2涂膜的厚度，以使将所述第1涂膜及所述第2涂膜贴合而得到的未固化粘接剂层中的所述聚合性化合物X的含量达到40～64质量％的方式调节所述第1涂敷工序中的所述易粘接组合物的涂敷量和/或所述第2涂敷工序中的所述粘接剂组合物的涂敷量的涂敷量调节工序；

将所述起偏镜的形成有所述第1涂膜的贴合面、与所述透明保护膜的形成有所述第2涂膜的贴合面贴合而形成所述未固化粘接剂层的贴合工序；以及

经由使所述未固化粘接剂层固化而得到的所述粘接剂层，使所述起偏镜及所述透明保护膜粘接在一起的粘接工序。

2.根据权利要求1所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述易粘接组合物和/或所述粘接剂组合物含有聚合引发剂，

所述涂敷量调节工序为以下工序：基于通过所述在线测定得到的所述第1涂膜及所述第2涂膜的厚度，以使将所述第1涂膜及所述第2涂膜贴合而得到的所述未固化粘接剂层中的所述聚合引发剂的含量成为2.6～7质量％的方式调节所述第1涂敷工序中的所述易粘接组合物的涂敷量和/或所述第2涂敷工序中的所述粘接剂组合物的涂敷量。

3.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述聚合性化合物X为选自丙烯酰基吗啉、N-甲氧基甲基丙烯酰胺、及N-乙氧基甲基丙烯酰胺中的至少1种。

4.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述粘接剂组合物中的所述聚合性化合物X的含量为35～65质量％。

5.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述易粘接组合物含有下述通式(1)表示的化合物和/或在结构式中具有M-O键的有机金属化合物，

式(1)中，X为含有反应性基团的官能团，R¹及R²分别独立地表示氢原子、任选具有取代基的脂肪族烃基、芳基、或杂环基，

M为硅、钛、铝或锆，O为氧原子。

6.根据权利要求5所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述通式(1)表示的化合物为下述通式(1’)表示的化合物，

式(1’)中，Y为有机基团，X、R¹及R²与上述含义相同。

7.根据权利要求5所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述通式(1)表示的化合物所具有的反应性基团为选自α,β-不饱和羰基、乙烯基、乙烯基醚基、环氧基、氧杂环丁基、氨基、醛基、巯基及卤素基团中的至少1种反应性基团。

8.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述起偏镜的水分率为15质量％以下。

9.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述易粘接组合物含有溶剂。

10.根据权利要求9所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述溶剂为水。

11.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述第1涂敷工序及所述第2涂敷工序是使用了后测量涂敷方式的涂敷工序。