[发明专利]包含三嵌段共聚物的多孔膜

权利要求书

1.一种多孔膜，所述多孔膜包含式ABC的三嵌段共聚物，所述多孔膜包括多个孔；

其中A嵌段具有90摄氏度或更高的T_g，并且以总嵌段共聚物的30重量％至80重量％范围内的量存在，包括端值在内；

其中B嵌段具有25摄氏度或更低的T_g，并且以总嵌段共聚物的10重量％至40重量％范围内的量存在，包括端值在内，并且

其中C嵌段为与所述A嵌段和所述B嵌段中的每者不混溶的水混溶性氢键合嵌段；

其中所述多孔膜包括第一主表面和相对的第二主表面，其中所述第一主表面为纳米结构化表面。

2.根据权利要求1所述的多孔膜，其中所述纳米结构化表面包括多个各向异性的纳米结构或纳米级相分离的区域。

3.根据权利要求1或2中的任一项所述的多孔膜，其中所述纳米结构化表面的密度为1×10¹³-1×10¹⁵个纳米结构/cm²。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的多孔膜，其中所述A嵌段包括聚苯乙烯。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的多孔膜，其中所述B嵌段包括聚异戊二烯。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的多孔膜，其中所述C嵌段包括聚(环氧乙烷)。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的多孔膜，其中所述膜为均孔的。

8.根据权利要求1至7中的任一项所述的多孔膜，其中所述多孔膜为一体式非对称膜。

9.一种制备多孔膜的方法，所述方法包括：

由溶液形成膜或中空纤维，所述溶液包含溶剂和固体，所述固体包含ABC三嵌段共聚物；

从所述膜或所述中空纤维中去除所述溶剂的至少一部分；以及

使所述膜或所述中空纤维与非溶剂接触，从而形成包括多个孔的多孔膜；

形成包括多个孔的所述多孔膜；

其中所述A嵌段具有90摄氏度或更高的T_g，并且以总嵌段共聚物的30重量％至80重量％范围内的量存在，包括端值在内；

其中所述B嵌段具有25摄氏度或更低的T_g，并且以总嵌段共聚物的10重量％至40重量％范围内的量存在，包括端值在内，并且

其中所述C嵌段为与所述A嵌段和所述B嵌段中的每者不混溶的水混溶性氢键合嵌段。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述A嵌段包括聚苯乙烯，所述B嵌段包括聚异戊二烯，并且所述C嵌段包括聚(环氧乙烷)。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其中所述溶剂选自二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、四氢呋喃、1,4-二氧杂环己烷、1,3-二氧杂环己烷、1,1-二氧四氢噻吩、甲基乙基酮、甲基四氢呋喃、环丁砜以及它们的组合物。

12.根据权利要求9至11中的任一项所述的方法，其中所述溶剂为70/30甲基乙基酮和二甲基甲酰胺的共混物。

13.根据权利要求9至12中的任一项所述的方法，所述方法还包括在10毫秒和2分钟之间去除所述溶剂的至少一部分。

14.根据权利要求9至13中的任一项所述的方法，其中形成所述膜包括将所述溶液流延在基底上。