[发明专利]庭院控制特征在审
申请号: | 202080020432.2 | 申请日: | 2020-03-12 |
公开(公告)号: | CN113557122A | 公开(公告)日: | 2021-10-26 |
发明(设计)人: | 博扬.泰沙诺比;哈特姆特.鲁德曼;尼古拉.斯普林;S.L.加齐尼 | 申请(专利权)人: | ams传感器新加坡私人有限公司 |
主分类号: | B29C64/112 | 分类号: | B29C64/112;B29C64/379;B33Y10/00;B33Y40/20;B29L11/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邓亚楠 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 庭院 控制 特征 | ||
1.一种制造多个光学元件的方法,该方法包括:
提供基板;
提供在复制侧包括多个复制分区的工具,每个复制分区限定所述光学元件之一的表面结构,所述工具还包括至少一个接触间隔物部分,所述接触间隔物部分在复制侧比所述复制分区的最外特征突出得更远;
使所述工具和所述基板相对于彼此对准,并使所述工具和所述基板的第一侧结合在一起,在所述工具和所述基板之间有复制材料,所述接触间隔物部分接触所述基板的第一侧,从而使所述间隔物部分粘附到所述基板的第一侧;
使所述复制材料硬化;以及
使所述工具与所述基板分离,硬化的复制材料粘附到所述基板上,其中所述基板具有围绕所述复制分区的至少一部分的庭院线特征,所述庭院线特征被配置为在庭院线相对于所述基板的第一侧包含所述复制材料。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述庭院线特征围绕沉积到所述基板上的复制材料。
3.根据权利要求1所述的方法,包括沉积第一体积的复制材料,接着沉积第二体积的复制材料,所述第二体积大于所述第一体积。
4.根据权利要求1所述的方法,包括从所述基板去除所述庭院线特征。
5.一种制造多个光学元件的方法,所述方法包括:
提供基板,在所述基板的第一侧上具有抗蚀剂层;
提供在复制侧包括多个复制分区的工具,每个复制分区限定所述光学元件之一的表面结构,所述工具还包括至少一个接触间隔物部分,所述接触间隔物部分在复制侧比所述复制分区的最外特征突出得更远;
使所述工具和所述基板相对于彼此对准,并使所述工具和所述基板的第一侧结合在一起,在所述工具和所述基板之间有复制材料,所述接触间隔物部分接触所述基板的第一侧,从而使所述间隔物部分粘附到所述基板的第一侧;
使所述复制材料硬化成特征和庭院;
使所述工具与所述基板分离,硬化的庭院材料粘附到所述基板和所述抗蚀剂层上;以及
从所述基板上去除所述抗蚀剂层,从而去除粘附到所述抗蚀剂层上的硬化材料。
6.根据权利要求5所述的方法,包括在使所述工具与所述基板分离之前,围绕每个复制分区的周边引导激光束。
7.根据权利要求6所述的方法,其中引导激光束包括在每个复制分区的周边切穿所述庭院材料,从而分离所述特征和所述硬化的庭院材料。
8.根据权利要求5所述的方法,包括用剥离器去除所述硬化的庭院材料。
9.根据权利要求5所述的方法,其中所述硬化的庭院线材料包围沉积到所述基板上的复制材料。
10.根据权利要求5所述的方法,包括沉积第一体积的复制材料,接着沉积第二体积的复制材料,所述第二体积大于所述第一体积。
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