[发明专利]粘合片、粘合片的制造方法、中间层叠体的制造方法以及中间层叠体有效

专利信息
申请号: 202080021401.9 申请日: 2020-01-17
公开(公告)号: CN113613894B 公开(公告)日: 2022-12-30
发明(设计)人: 仲野武史;本田哲士;尾崎真由;舟木千寻 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: B32B27/00 分类号: B32B27/00;B32B27/18;C09J11/04;C09J11/06;C09J133/00;C09J201/00;C09J201/02;G02B5/22;C09J7/22;C09J7/24;C09J7/25;C09J7/38;B32B7/023
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 粘合 制造 方法 中间 层叠 以及
【权利要求书】:

1.一种粘合片,其特征在于,具备:

第1粘合层、配置在所述第1粘合层的一个面的基材、以及配置在所述基材的一个面的第2粘合层;

所述第1粘合层由能通过紫外线的照射使波长550nm下的可见光透射率降低的粘合性组合物形成,

所述基材和/或第2粘合层的、波长300nm以上且400nm以下的平均透射率为15%以下,

所述基材和/或第2粘合层的、波长400nm以上且700nm以下的平均透射率为50%以上,

所述粘合性组合物包含:粘合性聚合物,其为单体成分的聚合物;因酸而发生着色的化合物;以及,光产酸剂。

2.根据权利要求1所述的粘合片,其特征在于,所述基材和/或第2粘合层包含紫外线吸收剂。

3.一种粘合片的制造方法,其特征在于,其为权利要求1或2所述的粘合片的制造方法,其具备如下工序:

第1粘合层准备工序,准备由能通过紫外线的照射使波长550nm下的可见光透射率降低的粘合性组合物形成的粘合层;

基材配置工序,在所述第1粘合层的一个面配置基材;以及,

第2粘合层配置工序,在所述基材的一个面配置第2粘合层,

所述基材和/或第2粘合层的、波长300nm以上且400nm以下的平均透射率为15%以下,

所述基材和/或第2粘合层的、波长400nm以上且700nm以下的平均透射率为50%以上,

所述粘合性组合物包含:粘合性聚合物,其为单体成分的聚合物;因酸而发生着色的化合物;以及,光产酸剂。

4.根据权利要求3所述的粘合片的制造方法,其特征在于,在所述第1粘合层准备工序后、且在所述基材配置工序前,对所述第1粘合层照射紫外线。

5.根据权利要求3所述的粘合片的制造方法,其特征在于,在所述第2粘合层配置工序后,对所述第1粘合层照射紫外线。

6.一种中间层叠体的制造方法,其特征在于,具备如下工序:

准备工序,准备通过权利要求5所述的粘合片的制造方法而制造的粘合片;

照射工序,对所述第1粘合层照射紫外线,在所述第1粘合层中形成紫外线的照射量相对高的高照射部分、以及紫外线的照射量相对低或未照射紫外线的未照射/低照射部分,从而使所述高照射部分的波长550nm下的可见光透射率小于所述未照射/低照射部分的波长550nm下的可见光透射率;以及,

贴附工序,将所述粘合片的另一个面贴附于被粘物。

7.根据权利要求6所述的中间层叠体的制造方法,其特征在于,在所述准备工序后实施所述照射工序,

在所述照射工序后实施所述贴附工序。

8.根据权利要求6所述的中间层叠体的制造方法,其特征在于,在所述准备工序后实施所述贴附工序,

在所述贴附工序后实施所述照射工序。

9.根据权利要求7或8所述的中间层叠体的制造方法,其特征在于,在所述照射工序中,从所述第2粘合层的表面侧对所述第1粘合层照射紫外线。

10.根据权利要求7所述的中间层叠体的制造方法,其特征在于,在所述照射工序中,从所述第1粘合层的表面侧对所述第1粘合层照射紫外线。

11.根据权利要求8所述的中间层叠体的制造方法,其特征在于,在所述照射工序中,从所述被粘物的表面侧对所述第1粘合层照射紫外线。

12.根据权利要求11所述的中间层叠体的制造方法,其特征在于,所述被粘物的、紫外线的平均透射率为60%以上,

在所述照射工序中,在所述被粘物侧的另一个面的一部分配置阻断紫外线的掩模后,对所述第1粘合层照射紫外线。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080021401.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top