[发明专利]电解沉积氧化铬层的方法

权利要求书

1.在连续高速镀覆生产线中从包含由水溶性的铬(III)盐提供的三价铬化合物的不含卤离子的电解质水溶液电解沉积氧化铬层至黑钢板上或至涂覆有以铬(III)技术为基础生产的电沉积铬涂层的黑钢板上的方法，所述连续高速镀覆生产线以至少50m/min的生产线速度工作，其中钢基材充当阴极并且其中阳极包含i)氧化铱或ii)混合金属氧化物的催化涂层，所述混合金属氧化物包含氧化铱和氧化钽，用于减少或消除Cr³⁺-离子氧化至Cr⁶⁺-离子，并且其中电解质溶液含有至少50mM且至多1000mM的Cr³⁺离子，总计25-2800mM的硫酸钠或硫酸钾，在25℃下测量的pH在2.50和3.6之间，并且其中镀覆温度在40和70℃之间并且其中没有向电解质添加其它化合物，除了任选的硫酸或氢氧化钠或氢氧化钾以调节pH至期望值。

2.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中将pH调节至2.55或更大的值，且优选至3.25或更小的值。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中镀覆时间即向阴极施加电流的持续时间为至多1000ms。

4.根据权利要求1所述的方法，其中水溶性的铬(III)盐是碱式硫酸铬(III)。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中作为氧化铬所沉积的铬的量为至少5mg/m²，优选至少6mg/m²，更优选至少7mg/m²，和甚至更优选至少8mg/m²。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中电解质溶液含有至多10mM的甲酸钠(NaCOOH)。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中电解质溶液含有至少210mM和/或至多845mM的硫酸钠。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中镀覆温度至少50℃、优选至少55℃。

9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中镀覆生产线的生产线速度为至少100m/min。

10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中钢基材在一侧或两侧上包含金属性涂覆层，所述涂覆层包含铬金属和氧化铬，并任选还有碳化铬和硫酸铬中的一种或多种，并且其中从包含三价铬化合物的电解质水溶液沉积金属性涂覆层，其中电解质溶液不含氯离子和硼酸缓冲剂，钢基材充当阴极并且阳极包含氧化铱或混合金属氧化物的催化涂层，用于减少或消除Cr³⁺-离子氧化至Cr⁶⁺-离子，其中电解质溶液含有至少50mM且至多1000mM的Cr³⁺离子，络合剂以

摩尔比为至少1:1，并且其中甲酸盐/Cr³⁺摩尔比为至多2.5:1，25至2800mM的硫酸钠(Na₂SO₄)，在25℃下测量的pH在1.5和3.6之间，并且其中镀覆温度在30和70℃之间。

11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中钢基材在一侧或两侧上通过膜层合步骤或直接挤出步骤进一步涂覆有由热塑性单层或热塑性多层聚合物组成的有机涂层。

12.根据权利要求11所述的方法，优选其中热塑性聚合物涂层是包含一个或多个层的聚合物涂层体系，所述层包含热塑性树脂例如聚酯或聚烯烃、丙烯酸树脂、聚酰胺、聚氯乙烯、氟碳树脂、聚碳酸酯、苯乙烯型树脂、ABS树脂、氯化聚醚、离聚物、氨基甲酸酯树脂和官能化的聚合物，和/或它们的共聚物，和或它们的共混物。