[发明专利]控制光刻装置的方法和相关装置

权利要求书

1.一种用于配置用于向衬底上的层提供结构的装置的方法，所述方法包括：

获取第一数据，所述第一数据包括在向所述衬底上的所述层提供所述结构之前所测量和/或建模的衬底特定数据；以及

针对不同的至少两个控制方案，基于所述第一数据以及共同评价函数的使用来确定所述装置的配置，所述共同评价函数包括与所述至少两个控制方案相关联的参数。

2.根据权利要求1的方法，其中所述衬底特定数据包括与所述衬底的特性相关的和/或与在所述结构被提供给所述衬底上的所述层时所述装置的状态相关的量测数据。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述配置的确定是针对在其上提供所述结构的每个衬底基于与所述衬底相对应的所述衬底特定数据单独地执行的。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述装置是光刻装置并且所述衬底特定数据包括描述所述衬底形状的调平数据，并且一个或多个所述控制方案包括对衬底台和掩模版台中的一者或两者的平行于衬底平面的控制、以及对所述衬底台和所述掩模版台中的一者或两者的垂直于所述衬底平面的控制，所述衬底台和所述掩模版台被包括在所述光刻装置内。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一数据包括在多个衬底上平均的平均量测数据，并且确定所述配置的步骤是基于所述平均量测数据而执行的，从而确定用于所述装置的致动器偏移，以用于对配置的确定的一个或多个另外步骤中。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述装置是光刻装置，并且所述控制方案包括以下中的两项或更多项：x、y和z方向中的每个方向上的曝光轨迹控制、透镜像差校正、剂量控制、和用于所述光刻装置的源激光器的激光带宽控制。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述装置是光刻装置，并且所述共同评价函数可操作以最小化边缘位置误差。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述共同评价函数包括与以下中的至少两项相关的参数：重叠控制、焦距控制、剂量控制、像差控制、对比度控制和源激光输出控制。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述共同评价函数是根据优化数据配置的，所述优化数据包括与要向所述衬底上的所述层施加的结构和/或所述结构的布置相关联的所测量的和/或经模拟的性能参数数据。

10.根据权利要求9的方法，其中所述优化数据包括最佳性能参数数据。

11.根据权利要求10的方法，其中所述最佳性能参数数据包括：

i)最佳焦距图，描述跨场和/或跨所述衬底上的所述层的管芯的最佳焦距设置，和/或

ii)最佳能量图，描述跨场和/或跨所述衬底上的所述层的管芯的最佳能量设置。

12.根据权利要求9所述的方法，其中确定所述配置包括：

最小化所述性能参数与对应控制目标值的最大偏差，和/或

最大化所述性能参数距所述性能参数的对应允许变化空间的边缘的距离。

13.根据权利要求1所述的方法，其中确定所述配置包括最大化向所述衬底上的所述层提供的管芯的数目，所述数目被估计为在指示所述管芯将起作用的规格内。

14.根据权利要求9所述的方法，其中确定所述配置包括使用所述优化数据来确定被包括在所述共同评价函数内的所述参数的权重。

15.一种计算机程序，包括程序指令，所述程序指令当在合适的装置上运行时可操作以执行根据权利要求1所述的方法。