[发明专利]用于光学发射光谱法的改进的火花台在审
申请号: | 202080022936.8 | 申请日: | 2020-03-17 |
公开(公告)号: | CN113614512A | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
发明(设计)人: | P·兰库巴 | 申请(专利权)人: | 塞莫费雪科学(埃居布朗)有限公司 |
主分类号: | G01N21/15 | 分类号: | G01N21/15;G01N21/67 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 乐洪咏;朱黎明 |
地址: | 瑞士埃*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 光学 发射光谱 改进 火花 | ||
1.一种用于光学发射光谱仪的火花台,其包含:
工作台,所述工作台具有用于接收待分析的固体样品的开孔,使得所述固体样品覆盖所述开孔;
火花室,其中具有电极;其中所述开孔定位在所述火花室上方;
气体入口,所述气体入口用于使气体流入所述火花室;
气体出口,所述气体出口用于从所述火花室运送气体;
其中所述火花室、气体入口和/或气体出口的一个或多个内表面包含抗粘附材料。
2.根据权利要求1所述的火花台,其中所述抗粘附材料具有0.5或更小、或0.4或更小、或0.3或更小的动态摩擦系数和静态摩擦系数。
3.根据权利要求1或2所述的火花台,其中所述抗粘附材料包含聚合材料。
4.根据前述权利要求中任一项所述的火花台,其中所述聚合材料包含氟化聚合材料。
5.根据权利要求4所述的火花台,其中所述氟化聚合材料包含以下中的至少一种:氟化聚亚烷基、氟化官能烷烃聚合物和氟化聚对二甲苯聚合物。
6.根据权利要求5所述的火花台,其中所述氟化聚合材料包含以下中的至少一种:聚四氟乙烯(PTFE)、氟化丙烯乙烯(FPE)、全氟烷氧基烷烃(PFA)、聚对二甲苯F-AF4和聚对二甲苯F-VT4。
7.根据权利要求4至6中任一项所述的火花台,其中所述氟化聚合材料包含全氟化聚合材料。
8.根据权利要求3至7中任一项所述的火花台,其中所述抗粘附材料包含两种或更多种不同聚合材料的混合物。
9.根据权利要求1或2所述的火花台,其中所述抗粘附材料包含陶瓷材料。
10.根据前述权利要求中任一项所述的火花台,其中所述抗粘附材料被设置为涂层。
11.根据权利要求1至9中任一项所述的火花台,其中所述抗粘附材料被设置为一块材料。
12.根据权利要求1至9中任一项所述的火花台,其中所述抗粘附材料形成所述火花台的基底材料。
13.一种光学发射光谱仪,其包含根据权利要求1至12中任一项所述的火花台。
14.一种光学发射光谱法的方法,其包含:提供火花台,所述火花台具有火花室、用于使气体流入所述火花室的气体入口和用于从所述火花室运送气体的气体出口;以及在所述火花室和/或气体入口和/或气体出口的一个或多个内表面处提供抗粘附材料。
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