[发明专利]聚合物、抗蚀剂组合物、形成有图案的基板的制造方法、以及(甲基)丙烯酸酯及其制造方法

权利要求书

1.一种聚合物，其包含基于下述式(1)所表示的单体的结构单元(1)，且基于具有多环结构的单体的结构单元的含量为35摩尔％以下，

[化1]

式(1)中，R¹表示氢原子或甲基；A¹表示包含酯键的连接基或单键，其中，A¹不具有叔碳原子；Z¹表示包含与A¹结合的碳原子和-SO₂-而形成碳原子数3～6的含硫环式烃基的原子团。

2.根据权利要求1所述的聚合物，其进一步包含具有酸脱离性基团的结构单元(2)。

3.根据权利要求2所述的聚合物，所述结构单元(2)包含结构单元(2i)，所述结构单元(2i)具有含脂环式烃基的酸脱离性基团。

4.根据权利要求3所述的聚合物，所述结构单元(2)包含结构单元(2ii)，所述结构单元(2ii)具有含单环的脂环式烃基的酸脱离性基团。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的聚合物，相对于全部结构单元，所述结构单元(1)为15摩尔％以上。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的聚合物，其进一步包含具有内酯骨架的结构单元(3)。

7.一种抗蚀剂组合物，其包含权利要求1～6中任一项所述的聚合物、以及通过活性光线或放射线的照射而产生酸的化合物。

8.一种形成有图案的基板的制造方法，包括：将权利要求7所述的抗蚀剂组合物涂布于基板的被加工面上而形成抗蚀剂膜的工序；对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序；以及使用显影液对曝光后的抗蚀剂膜进行显影的工序。

9.一种(甲基)丙烯酸酯的制造方法，所述(甲基)丙烯酸酯由下述式(1x)表示，所述制造方法具有以下的工序1、2，

工序1：通过下述式(2x)所表示的醇与下述式(3x)所表示的(甲基)丙烯酸酯的酯交换反应，获得包含下述式(1x)所表示的(甲基)丙烯酸酯(1x)的溶液的工序；

工序2：在通过所述工序1获得的包含所述(甲基)丙烯酸酯(1x)的溶液中加入不良溶剂而使高分子量体析出，并将所述高分子量体去除的工序，

[化2]

式(1x)中，R¹¹表示氢原子或甲基；A¹¹表示包含酯键的连接基或单键，其中，A¹¹不具有叔碳原子；Z¹¹表示包含与A¹¹结合的碳原子和-SO₂-而形成碳原子数3～6的含硫环式烃基的原子团；

式(2x)中，Z¹¹表示包含与羟基结合的碳原子和-SO₂-而形成碳原子数3～6的含硫环式烃基的原子团；

式(3x)中，R¹¹表示氢原子或甲基，R¹²表示直链或分支状的碳原子数1～10的烷基。

10.根据权利要求9所述的(甲基)丙烯酸酯的制造方法，在所述工序2中，使用烃系溶剂作为不良溶剂。

11.一种(甲基)丙烯酸酯，由下述式(1x)表示，其中分子量5000以上的高分子量体的含量为0.1质量％以下，

[化3]

式(1x)中，R¹¹表示氢原子或甲基；A¹¹表示包含酯键的连接基或单键，其中，A¹¹不具有叔碳原子；Z¹¹表示包含与A¹¹结合的碳原子和-SO₂-而形成碳原子数3～6的含硫环式烃基的原子团。