[发明专利]用于X射线校准的X射线环形标记

权利要求书

1.一种C型臂配准系统，包括：

X射线环形标记(20)，其包括在环状基座(30)上的一个啁啾环(40)和中心环(50)的同轴结构；以及

C型臂配准控制器(70)，其用于将C型臂(60)配准到所述X射线环形标记(20)，其中，所述C型臂配准控制器(70)被配置为：

采集基线X射线图像，所述基线X射线图像图示由所述C型臂(60)在基线成像姿势处进行的基线X射线投影内的所述X射线环形标记(20)；

根据所述基线X射线图像内的所述中心环(50)的图示来导出所述X射线环形标记(20)的基线位置参数，所述基线位置参数定义所述X射线环形标记(20)在所述基线X射线投影内的位置；并且

根据对所述基线位置参数和所述基线X射线图像内的所述啁啾环(40)的图示来导出所述X射线环形标记(20)的基线扭曲参数，所述基线扭曲参数定义所述X射线环形标记(20)在所述基线X射线投影内的扭曲。

2.根据权利要求1所述的C型臂配准系统，其中，所述C型臂配准控制器(70)被配置为导出所述X射线环形标记(20)的所述基线位置参数包括所述C型臂配准控制器(70)还被配置为：

在所述基线X射线图像内描绘所述中心环(50)；并且

根据对所述基线X射线图像内的所述中心环(50)的描绘来将所述X射线环形标记(20)在所述基线X射线投影内的所述位置参数化。

3.根据权利要求2所述的C型臂配准系统，其中，所述C型臂配准控制器(70)被配置为导出所述X射线环形标记(20)的所述基线位置参数包括所述C型臂配准控制器(70)还被配置为：

根据对所述X射线环形标记(20)在所述基线X射线投影内的所述位置的参数化来构建代价函数。

4.根据权利要求3所述的C型臂配准系统，其中，所述C型臂配准控制器(70)被配置为导出所述X射线环形标记(20)的所述基线位置参数包括所述C型臂配准控制器(70)还被配置为：

将非线性最小二乘技术应用于所述代价函数。

5.根据权利要求1所述的C型臂配准系统，其中，所述C型臂配准控制器(70)被配置为导出所述基线扭曲参数包括所述C型臂配准控制器(70)还被配置为：

基于所述基线位置参数将所述X射线环形标记(20)的点投影到所述C型臂(60)的X射线探测器上；并且

将所述啁啾环(40)的扫掠频率与被投影到所述C型臂(60)的所述X射线探测器上的所述X射线环形标记(20)的所述点的图像强度值的归一化互相关参数化。

6.根据权利要求1所述的C型臂配准系统，其中，所述C型臂配准控制器(70)还被配置为：

根据所述中心环(50)在所述X射线环形标记(20)上的位置和所述中心环(50)在所述基线X射线图像内的位置来导出配准误差。

7.根据权利要求1所述的C型臂配准系统，其中，所述C型臂配准控制器(70)还被配置为：

采集目标X射线图像，所述目标X射线图像图示由所述C型臂(60)在目标成像姿势处进行的目标X射线投影内的所述X射线环形标记(20)；

根据对所述基线X射线图像内的所述中心环(50)的图示来导出所述X射线环形标记(20)的目标位置参数，所述目标位置参数定义所述X射线环形标记(20)在所述目标X射线投影内的位置；并且

根据所述目标位置参数和所述目标X射线图像内的所述啁啾环(40)的图示来导出所述X射线环形标记(20)的目标扭曲参数，所述目标扭曲参数定义所述X射线环形标记(20)在所述目标X射线投影内的扭曲。

8.根据权利要求7所述的C型臂配准系统，其中，所述C型臂配准控制器(70)还被配置为：

根据所述基线位置参数、所述基线扭曲参数、所述目标位置参数和所述目标扭曲参数，基于在所述基线X射线图像和所述目标X射线图像中所图示的界标来实施介入步骤。