[发明专利]组合物、膜及膜的制造方法有效
申请号: | 202080024168.X | 申请日: | 2020-03-24 |
公开(公告)号: | CN113631664B | 公开(公告)日: | 2022-10-18 |
发明(设计)人: | 森全弘;中村翔一 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | C09D1/00 | 分类号: | C09D1/00;C08K3/36;C08L83/06;C08L83/12;C09D7/63;G02B1/111 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 薛海蛟 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组合 制造 方法 | ||
本发明提供一种组合物、膜及膜的制造方法,该组合物包含二氧化硅粒子、硅酮系表面活性剂及溶剂,组合物中含有0.01~0.30质量%的硅酮系表面活性剂,或者在组合物的总固体成分中含有0.05~5.00质量%的硅酮系表面活性剂。
技术领域
本发明涉及一种包含二氧化硅粒子的组合物、使用了包含二氧化硅粒子的组合物的膜及其制造方法。
背景技术
低折射率膜等的光学功能层例如,为了防止所入射的光的反射而应用于透明基材的表面。其应用领域广泛,应用于光学设备、建筑材料、观察仪器、窗户玻璃等各个领域的产品中。作为其材料,无论是有机/无机原材料而利用各种原材料,均作为开发对象。其中,近年来,对应用于光学设备的材料进行了开发。具体而言,在显示面板、光学透镜及影像传感器等中,对具有适合其产品的物性和加工性的材料进行了探索。
对应用于影像传感器等精密光学设备的光学功能层要求微细且精确的加工成形性。因此,一直以来,采用适合于微细加工的真空蒸镀法和溅射法等气相法。作为其材料,例如,包含MgF2、冰晶石等的单层膜已实际使用。并且,还尝试SiO2、TiO2、ZrO2等金属氧化物的应用。
另一方面,在真空蒸镀法、溅射法等气相法中,由于装置等昂贵,因此制造成本有时会增加。相应地,最近研究了使用含有二氧化硅粒子的组合物来制造低折射率膜等光学功能层(参考专利文献1~3)。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2015-166449号公报
专利文献2:国际公开第2015/190374号
专利文献3:国际公开第2019/017280号
发明内容
发明要解决的技术课题
本发明人对包含二氧化硅粒子的组合物进行进一步研究的结果,可知利用旋涂法涂布包含二氧化硅粒子的组合物时,有时在表面产生波形的涂布不均匀。由此,对于含有二氧化硅粒子的组合物,掌握其运用仍存在改善的余地。
并且,使用包含二氧化硅粒子的组合物形成膜之后,有时在该膜上涂布有上涂层形成用组合物等其他膜形成用组合物。因此,关于使用包含二氧化硅粒子的组合物形成的膜,还期望在膜上涂布其他膜形成用组合物时,对其他膜形成用组合物的涂布性优异。
因此,本发明的目的在于提供一种能够形成其他膜形成用组合物的涂布性良好并且波形的涂布不均匀的产生得到抑制的膜的组合物、膜及膜的制造方法。
用于解决技术课题的手段
根据本发明人的研究,发现通过使用后述的组合物,能够实现上述目的,完成了本发明。因此,本发明提供以下。
1一种组合物,其包含二氧化硅粒子、硅酮系表面活性剂及溶剂,
上述组合物中含有0.01~0.30质量%的上述硅酮系表面活性剂,
将上述组合物涂布于硅晶片上,在200℃下加热5分钟,形成厚度为0.3μm的膜时,上述膜的波长633nm的光的折射率为1.4以下。
2一种组合物,其包含二氧化硅粒子、硅酮系表面活性剂及溶剂,
上述组合物的总固体成分中含有0.05~5.00质量%的上述硅酮系表面活性剂,
将上述组合物涂布于硅晶片上,在200℃下加热5分钟,形成厚度为0.3μm的膜时,上述膜的波长633nm的光的折射率为1.4以下。
3一种组合物,其包含二氧化硅粒子、硅酮系表面活性剂及溶剂,
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