[发明专利]组合物和膜

权利要求书

1.一种组合物，其是有机硅化合物A、低沸点溶剂C1、高沸点溶剂C2和弱酸E的混合组合物，

所述有机硅化合物A在硅原子上键合有含有烃链的基团即AL6～20和至少1个水解性基团，所述含有烃链的基团即AL6～20为亚甲基的一部分可取代为氧原子的碳原子数6～20的烷基，

所述低沸点溶剂C1在20℃下的蒸气压超过1000Pa且沸点小于120℃，

所述高沸点溶剂C2满足20℃下的蒸气压为1000Pa以下和沸点为120℃以上中的至少一者，

所述弱酸E的pKa为1～5。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述有机硅化合物A由下述式(AI)表示，

所述式(AI)中，R^a1表示所述含有烃链的基团即AL6～20，多个A^a1各自独立地表示所述水解性基团，Z^a1表示含有烃链的基团即HC或水解性基团，Z^a1为含有烃链的基团即HC时，R^a1与Z^a1可以相同或不同，Z^a1为水解性基团时，Z^a1与A^a1可以相同或不同，另外，多个式(AI)间R^a1与Z^a1可以相同或不同。

3.根据权利要求1或2所述的组合物，其中，混合有至少1个水解性基团键合于金属原子、且含有烃链的基团即HC1～5可键合于所述金属原子的金属化合物B，所述含有烃链的基团即HC1～5为亚甲基的一部分可取代为氧原子的碳原子数1～5的烃基。

4.根据权利要求3所述的组合物，其中，所述金属化合物B由下述式(BI)表示，

M(R^b1)_n(A^b1)_m (BI)

所述式(BI)中，M表示Al、Fe、In、Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr或Ta，

n表示0或1，m表示1以上的整数，n和m的合计与金属M的价数相等，

R^b1表示所述含有烃链的基团即HC1～5，A^b1表示所述水解性基团，A^b1为多个时，多个A^b1可以分别相同或不同。

5.根据权利要求3或4所述的组合物，其中，所述金属化合物B与所述有机硅化合物A的摩尔比为0.1倍～48倍。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的组合物，其中，所述低沸点溶剂C1为醇系溶剂。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的组合物，其中，所述高沸点溶剂C2的溶解度参数为14.0(cal/cm³)^1/2以上。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的组合物，其中，混合有水D，相对于该水D 100质量％，所述高沸点溶剂C2的比率为0.01～30质量％。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的组合物，其中，所述弱酸E为多元羧酸化合物或磷酸化合物。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的组合物，其中，所述弱酸E的pKa为4.3以下。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的组合物，其中，混合有催化剂F。

12.根据权利要求11所述的组合物，其中，所述催化剂F为pKa小于1的强酸。

13.一种膜，是将权利要求1～12中任一项所述的组合物固化而得的。

14.根据权利要求12所述的膜，其中，滑落角为30°以下。