[发明专利]正型抗蚀剂组合物和使用该正型抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的制造方法

权利要求书

1.一种正型抗蚀剂组合物，包含：

(A)选自聚合物P和聚合物Q的至少一种聚合物，

聚合物P含有选自式(P-1)至(P-4)的重复单元：

式中，

R^p1、R^p3、R^p5和R^p8各自独立地为C_1-5烷基、C_1-5烷氧基或-COOH，

R^p2、R^p4和R^p7各自独立地为C_1-5烷基，这里，烷基中的-CH₂-可以被-O-替代，

R^p6和R^p9各自独立地为C_1-5烷基，这里，烷基中的-CH₂-可以被-O-替代，

x1为0～4，x2为1～2，其中x1+x2≤5，

x3为0～5，

x4为1～2，x5为0～4，其中x4+x5≤5，

聚合物Q包含由式(Q-1)表示的重复单元：

式中，

R^q1各自独立地为C_1-5烷基，

y1是1～2，y2是0～3，其中y1+y2≤4

其中，组合物中的聚合物P的总质量M_p和聚合物Q的总质量M_q满足：0M_p/(M_p+M_q)≤100％，和0≤M_q/(M_p+M_q)70％；

(B)具有酰亚胺基的产酸剂；

(C)溶解速度调节剂，其是两个以上酚结构通过烃基连接的化合物，烃基视情况被氧基取代；以及

(D)溶剂。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中，10≤M_q/(M_p+M_q)≤60％。

3.根据权利要求1或2所述的组合物，其中，聚合物Q包含选自式(Q-1a)至(Q-1d)的重复单元：

(Q-1a)的重复单元数N_qa、(Q-1b)的重复单元数N_qb、(Q-1c)的重复单元数N_qc和(Q-1d)的重复单元数N_qd满足下式：

30％≤N_qa/(N_qa+N_qb+N_qc+N_qd)≤100％；

0％≤N_qb/(N_qa+N_qb+N_qc+N_qd)≤70％；

0％≤N_qc/(N_qa+N_qb+N_qc+N_qd)≤50％；且

0％≤N_qd/(N_qa+N_qb+N_qc+N_qd)≤70％。

4.根据权利要求1至3中至少一项所述的组合物，其中，所述组合物还包含(E)碱性化合物，优选地，所述组合物还包含(F)增塑剂。

5.根据权利要求1至4中至少一项所述的组合物，其中，以(A)聚合物的总质量为基准，(B)产酸剂的含量为0.1～10.0质量％，

优选地，以组合物的总质量为基准，(A)聚合物的含量为10～50质量％，

优选地，以(A)聚合物的总质量为基准，(C)溶解速度调节剂的含量为0.1～20质量％，

优选地，以组合物的总质量为基准，(D)溶剂的含量为40～90质量％，

优选地，以(A)聚合物的总质量为基准，(E)碱性化合物的含量为0～1.0质量％，

优选地，以(A)聚合物的总质量为基准，(F)增塑剂的含量为0～30质量％。