[发明专利]Li2在审

专利信息
申请号: 202080026113.2 申请日: 2020-03-18
公开(公告)号: CN113710624A 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 横田裕基;平野翔太郎;东条真 申请(专利权)人: 日本电气硝子株式会社
主分类号: C03C10/12 分类号: C03C10/12
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;崔仁娜
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: li base sub
【说明书】:

本发明提供一种紫外~红外域的透光性高且不易破裂的Li2O-Al2O3-SiO2系结晶化玻璃。该Li2O-Al2O3-SiO2系结晶化玻璃的特征在于,以质量%计含有40~90%的SiO2、5~30%的Al2O3、1~10%的Li2O、0~20%的SnO2、0~5%的ZrO2、0~10%的MgO、0~10%的P2O5、0~4%的TiO2,以质量比计,Li2O/(MgO+CaO+SrO+BaO+Na2O+K2O)为3以下。

技术领域

本发明涉及Li2O-Al2O3-SiO2系结晶化玻璃。

背景技术

近年来,对于便携式电话、笔记本型个人电脑、PDA(Personal Data Assistance,个人数字助理)等便携式电子设备要求小型化和轻量化。伴随于此,用于这些电子设备的半导体芯片的安装空间也受到苛刻的限制,半导体芯片的高密度安装成为课题。于是,通过三维安装技术,即,将半导体芯片彼此叠层,在各半导体芯片之间进行布线连接,由此谋求半导体封装体的高密度安装。

专利文献1所述,在扇出(fan out)型晶圆级封装(WLP)中,包括:将多个半导体芯片利用树脂的密封材料进行塑封(molding),形成加工基板后,在加工基板的一侧表面进行布线的工序;形成焊料凸点的工序等。这些工序伴随大约200℃的热处理,因此,存在密封材料发生变形、加工基板发生尺寸变化的担忧。为了抑制加工基板的尺寸变化,使用用于支撑加工基板的支撑基板是有效的,为了有效地抑制相对低膨胀的加工基板的尺寸变化,有时对支撑基板要求低膨胀特性。

由此,探讨将作为主结晶析出属于低膨胀结晶的β-石英固溶体(Li2O·Al2O3·nSiO2[其中2≤n≤4])或β-锂辉石固溶体(Li2O·Al2O3·nSiO2[其中n≥4])等Li2O-Al2O3-SiO2系结晶而成的Li2O-Al2O3-SiO2系结晶化玻璃用作支撑基板。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特愿2014-255236号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

然而,使β―锂辉石固溶体作为主结晶析出的Li2O-Al2O3-SiO2系结晶化玻璃在紫外~红外域透光性低,因此存在难以透过将加工基板与玻璃基板固定、分离时使用的激光(紫外光~红外光)的问题。并且,关于使β―石英固溶体作为主结晶析出的Li2O-Al2O3-SiO2系结晶化玻璃,从母玻璃析出结晶时的体积收缩量大,存在容易发生表面剥离、龟裂等破裂的问题。

本发明的目的在于提供一种紫外~红外域的透光性高且不易破裂的Li2O-Al2O3-SiO2系结晶化玻璃。

用于解决技术问题的技术方案

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