[发明专利]具有不粘和/或不湿涂层的腔体、包括这种腔体的烹饪器具以及用于制造腔体的方法

权利要求书

1.一种腔体(4)、特别是用于烹饪器具(2)的腔体(4)、特别是烤箱腔体(4)，该腔体包括

-至少一个腔体壁(8a、8b、8c、8d)，该至少一个腔体壁限定用于烹饪食物的烹饪室(6)并且具有面向该烹饪室(6)的内表面(10)，

-中央开口，该中央开口用于将食物放入该烹饪室(6)中，

-不粘和/或不湿涂层(16)，该不粘和/或不湿涂层至少部分地施加到该内表面(10)，

其特征在于，

-该不粘和/或不湿涂层(16)至少包括第一层(18)，其中，通过溶胶-凝胶过程从包括硅溶胶和硅烷的第一组合物获得该第一层(18)，并且/或者

-该腔体(4)进一步包括热反射防护系统(26)，该热反射防护系统具有至少一个热反射防护件(28)以减少由加热元件(30)产生的热辐射，这些加热元件在该腔体(4)内抵靠该不粘和/或不湿涂层(16)布置。

2.根据权利要求1所述的腔体(4)，

其特征在于，

该至少一个腔体壁(8a、8b、8c、8d)由不锈钢制成或由易蚀钢制成，并且设置有防腐蚀或制备层(12)、特别是搪瓷层和/或铝层和/或包括铝的层，其中，该第一层(18)施加到所述防腐蚀或制备层(12)。

3.根据权利要求1或2所述的腔体(4)，

其特征在于，

该不粘和/或不湿涂层(16)至少包括施加到该第一层(18)的第二层(22)，其中，通过溶胶-凝胶过程从包括硅溶胶、硅烷和硅氧烷的第二组合物获得该第二层(22)。

4.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4)，

其特征在于，

该硅溶胶的存在量为15wt％至70wt％、特别是量为30wt％至70wt％，并且/或者该硅烷的存在量为2wt％至70wt％、特别是量为10wt％至40wt％。

5.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4)，

其特征在于，

该硅烷是有机烷氧基硅烷、特别是甲基三甲基氧基硅烷、和/或含氟烷氧基硅烷。

6.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4)，

其特征在于，

该第一组合物和/或该第二组合物包括溶剂、特别是有机溶剂。

7.根据权利要求6所述的腔体(4)，

其特征在于，

该溶剂的存在量为10wt％至60wt％、特别是量为10wt％至40wt％。

8.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4)，

其特征在于，

该第一组合物包括硅氧烷、特别是聚二甲基硅氧烷。

9.根据权利要求3至8中任一项所述的腔体(4)，

其特征在于，

该硅氧烷的存在量为0.1wt％至2wt％。

10.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4)，

其特征在于，

该第一组合物和/或该第二组合物包括颜料和/或染料和/或填充材料和/或其他添加剂。

11.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4)，其中，该至少一个腔体壁(8a、8b、8c、8d)和/或该防腐蚀或制备层(12)的内表面具有在Ra 0.01μm至10.00μm之间、更优选地在Ra0.10μm至5.00μm之间、仍更优选地在Ra 0.20μm至5.00μm之间、仍更优选地在Ra 0.50μm至5.00μm之间、仍更优选地在Ra 2.00μm之间5.00μm之间、仍更优选地在Ra 2.50μm至5.00μm之间的表面粗糙度。

12.根据前述权利要求中任一项所述的腔体(4)，其中，该防腐蚀或制备层(12)、特别是该搪瓷层具有小于100μm、更优选地小于80μm、仍更优选地小于50μm、仍更优选地小于30μm的厚度。