[发明专利]IKAROS和AIOLOS的三环降解物

权利要求书

1.式I或式II化合物

或

或其药学上可接受的盐或同位素衍生物；

其中：

X¹和X²独立地选自CH和N；

X³选自键、NR²、C(R³R^3’)、O、C(O)、C(S)、S、S(O)和S(O)₂；

R¹选自氢、卤素、氰基、硝基、烷基、卤代烷基、-NR²R²'、-OR²、-NR²R⁴、-OR⁴、-NR²R⁵、-OR⁵、-(CR³R³')-R⁴、-(CR³R³')-R⁵、-(CR³R³')-NR²R⁴、-(CR³R³')-NR²R⁵、-(CR³R³')-OR⁴、-(CR³R³')-OR⁵、-C(O)R⁴、-SR⁴、-SR⁵、-S(O)R⁴和-S(O)₂R⁴；

R²和R²'在每次出现时独立地选自氢、烷基、卤代烷基、环烷基、杂环、芳基、杂芳基、-C(O)R⁸、-C(O)OR⁸、-C(O)-NR⁸R⁸'、-S(O)R⁸、-SO₂R⁸、-SO₂-OR⁸和-SO₂-NR⁸R⁸'；

R³选自氢、卤素、烷基、卤代烷基、-OR⁸和-NR⁸R⁸'；

R³'选自氢、卤素、烷基和卤代烷基；

或R³和R³'可以与它们所连接的碳结合形成3元至6元环烷基环；

R⁴选自环烷基、杂环、芳基和杂芳基，其中每个R⁴任选地被一个选自R⁶的基团取代，并且其中每个R⁴还任选地被1、2、3或4个独立地选自R⁷的基团取代；

R⁵是-C(O)R⁶；

R⁶选自烷基、环烷基、杂环、芳基和杂芳基，其中每个R⁶任选地被1、2、3或4个独立地选自R⁹的基团取代；

或R⁶选自烷基、环烷基、杂环、芳基、杂芳基、-CO-烷基、-CO-环烷基、-CO-杂环、-CO-芳基、-CO-杂芳基、-O-烷基、-O-环烷基、-O-杂环、-O-芳基、-O-杂芳基、-NR²-烷基、-NR²-环烷基、-NR²-杂环、-NR²-芳基和-NR²-杂芳基，其中每个R⁶任选地被1、2、3或4个独立地选自R⁹的基团取代；

R⁷在每次出现时独立地选自氢、卤素、羟基、氰基、硝基、烷基、卤代烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环、芳基、杂芳基、-OR⁸、-NR⁸R⁸'、-C(O)R⁸、-C(O)OR⁸、-C(O)-NR⁸R⁸'、-OC(O)R⁸、-NR²-C(O)R⁸、-S(O)R⁸、-SO₂R⁸、-SO₂-OR⁸和-SO₂-NR⁸R⁸'；

或同一碳上的两个R⁷可以组合在一起形成氧代基团；

R⁸和R^8’在每次出现时独立地选自氢、烷基、卤代烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环、芳基和杂芳基；

R⁹在每次出现时独立地选自氢、卤素、氰基、硝基、R¹⁰、-CH₂R¹⁰、-OR¹⁰、-NR²R¹⁰、-C(O)R¹⁰、-C(O)CH₂R¹⁰、-C(O)CH₂OR¹⁰、-C(O)CH₂NR²R¹⁰、-OC(O)R¹⁰、-NR²-C(O)R¹⁰、-C(O)OR¹⁰、-C(O)NR²R¹⁰、-S(O)R¹⁰、-SO₂R¹⁰、SO₂CH₂R¹⁰、-SO₂CH₂OR¹⁰、-SO₂CH₂NR²R¹⁰、-NR²SO₂R¹⁰、-SO₂-OR¹⁰和-SO₂-NR²R¹⁰；

R¹⁰选自烷基、卤代烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环、芳基和杂芳基，其中每个R¹⁰任选地被1、2、3或4个独立地选自R¹¹的基团取代；

R¹¹选自：氢；卤素；羟基；氰基；硝基；烷基；卤代烷基；任选地被芳基或杂芳基取代的烯基；任选地被芳基或杂芳基取代的炔基；环烷基；杂环；任选地被1、2、3或4个卤素、烷基或-OR⁸基团取代的芳基；任选地被1、2、3或4个卤素、烷基或-OR⁸基团取代的杂芳基；任选地被1、2、3或4个卤素、烷基或-OR⁸基团取代的-CH₂芳基；任选地被1、2、3或4个卤素、烷基或-OR⁸基团取代的-CH₂杂芳基；-OR⁸；-NR⁸R^8’；-C(O)R⁸；-C(O)OR⁸；-C(O)-NR⁸R^8’；-C(O)CH₂R⁸；-C(O)CH₂OR⁸；-C(O)CH₂-NR⁸R^8’；-OC(O)R⁸；-NR²-C(O)R⁸；-CH₂-OC(O)R⁸；-CH₂-NR²-C(O)R⁸；-S(O)R⁸；-SO₂R⁸；-SO₂-OR⁸；和-SO₂-NR⁸R^8’；

或同一碳上的两个R¹¹基团可以组合在一起形成氧代基团；

或R¹¹在每次出现时独立地选自：卤素；羟基；氰基；硝基；烷基；卤代烷基；烯基；炔基；环烷基；杂环；芳基；杂芳基；-CH₂芳基；-CH₂杂芳基；-OR⁸；-NR⁸R^8’；-C(O)R⁸；-C(O)OR⁸；-C(O)-NR⁸R^8’；-C(O)CH₂R⁸；-C(O)CH₂OR⁸；-C(O)CH₂-NR⁸R^8’；-OC(O)R⁸；-NR²-C(O)R⁸；-CH₂-OC(O)R⁸；-CH₂-NR²-C(O)R⁸；-S(O)R⁸；-SO₂R⁸；-SO₂-OR⁸；氧代和-SO₂-NR⁸R^8’；其中每个R¹¹基团任选地被1、2、3或4个独立地选自R¹²的基团取代；

R¹²在每次出现时独立地选自：卤素；羟基；氰基；硝基；烷基；卤代烷基；烯基；炔基；环烷基；杂环；芳基；杂芳基；-CH₂芳基；-CH₂杂芳基；-OR⁸；-NR⁸R^8’；-C(O)R⁸；-C(O)OR⁸；-C(O)-NR⁸R^8’；-C(O)CH₂R⁸；-C(O)CH₂OR⁸；-C(O)CH₂-NR⁸R^8’；-OC(O)R⁸；-NR²-C(O)R⁸；-CH₂-OC(O)R⁸；-CH₂-NR²-C(O)R⁸；-S(O)R⁸；-SO₂R⁸；-SO₂-OR⁸；氧代；和-SO₂-NR⁸R⁸'；

R²⁰、R²¹、R²²、R²³和R²⁴在每次出现时独立地选自下组：键、烷基、-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-、-SO₂-、-S(O)-、-C(S)-、-C(O)NR²-、-NR²C(O)-、-O-、-S-、-NR²-、-P(O)(R²⁸)-、-P(O)-、烯基、炔基、卤代烷基、芳基、杂环、杂芳基、双环和碳环；其中每一个任选地被1、2、3或4个独立地选自R⁴⁰的取代基取代；且其中R²⁰、R²¹、R²²、R²³和R²⁴不能如下这样选择：

i.-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-、-SO₂-、-S(O)-、-P(O)(R²⁸)-、-P(O)-、-C(S)-部分彼此相邻；或者

ii.-O-、-S-或-NR²-部分彼此相邻；或者

iii.部分以产生不稳定分子的顺序另外选择(不稳定分子定义为产生在环境温度下保存期小于约4个月(或少于约6个月或5个月)的分子，这是由部分R²⁰、R²¹、R²²、R²³和R²⁴的选择和顺序引起的分解导致的)；

R²⁵选自氢、烷基、烯基、炔基、卤素、羟基、烷氧基、叠氮基、氨基、氰基、-OR²、-NR²R²'、-NR²SO₂R²⁸、-OSO₂R²⁸、-SO₂R²⁸、卤代烷基、芳基、杂芳基、杂环、双环和环烷基；其中每个R²⁵基团任选地被1、2、3或4个独立地选自R¹²的基团取代；

R²⁸在每次出现时独立地选自氢、-NR²R^2’、-OR²、-SR²、烷基、卤代烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环、芳基和杂芳基；且

R⁴⁰在每次出现时独立地选自氢、烷基、烯基、炔基、卤素、羟基、烷氧基、叠氮基、氨基、氰基、-NR²R²'、-NR²SO₂R²⁸、-OSO₂R²⁸、-SO₂R²⁸、卤代烷基、芳基、杂芳基、杂环、氧代、和环烷基；其中每个R⁴⁰基团任选地被1、2、3或4个独立地选自R¹²的基团取代。