[发明专利]用于电感耦合等离子体质谱测定的离子源在审
申请号: | 202080029505.4 | 申请日: | 2020-03-16 |
公开(公告)号: | CN113711333A | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 博多·哈滕多夫;德特勒夫·冈瑟;托马斯·沃德拉赫 | 申请(专利权)人: | 苏黎世联邦理工学院 |
主分类号: | H01J49/10 | 分类号: | H01J49/10;H01J49/04 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 康建峰;杨华 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 电感 耦合 等离子 体质 测定 离子源 | ||
1.一种用于使用电感耦合等离子体从样品中生成离子的ICP源,所述ICP源(100;500)被配置成耦合至质谱仪(200;200’),其特征在于,所述ICP源(100;500)被配置成允许所述样品沿向下指向的竖直方向(G)向所述等离子体中的引入。
2.根据权利要求1所述的ICP源,其中,所述ICP源被配置成允许离子沿所述向下指向的竖直方向(G)从所述等离子体中被提取。
3.根据权利要求1或2所述的ICP源,包括等离子体炬,所述等离子体炬包括限定了竖直定向的纵轴的注入管,所述注入管具有被配置成接收所述样品的上端和被配置成将所述样品引入至所述等离子体中的下端。
4.根据权利要求3所述的ICP源,包括金属冷却板(140),所述金属冷却板(140)至少部分地围绕所述等离子体炬(130;530)以保护所述ICP源(100;500)的在所述金属冷却板(140)上方的部件免受由于维持所述等离子体而生成的热量的影响。
5.根据权利要求4所述的ICP源,包括冷却系统,所述冷却系统用通过所述金属冷却板(140)或者通过连接至所述金属冷却板的部件的冷却流体特别是空气或水的受迫流来主动地冷却所述金属冷却板。
6.根据前述权利要求中的任一项所述的ICP源,包括用于通过电感耦合来维持所述等离子体的电磁耦合元件,特别是感应线圈或环形谐振器,所述耦合元件限定了纵轴,其中,所述纵轴是竖直定向的。
7.一种电离系统,包括:
用于使所述样品气溶胶化的气溶胶化设备;以及
根据前述权利要求中的任一项所述的ICP源(100;500),
其中,所述ICP源(100;500)以这样的方式耦合至所述气溶胶化设备:经气溶胶化的样品从所述气溶胶化设备沿所述向下指向的竖直方向(G)被传递至所述ICP源(100;500)。
8.根据权利要求7所述的电离系统,其中,所述气溶胶化设备包括:
液滴分配器(411)和耦合至所述液滴分配器的竖直定向的下落管(413),所述下落管(413)允许由所述液滴分配器产生的液滴在重力作用下被向下输送,所述下落管(413)的出口以这样的方式连接至所述ICP源(100;500)的入口:退出所述下落管(413)的经气溶胶化的样品从所述下落管(413)沿所述向下指向的竖直方向(G)被传递至所述ICP源(100;500);或者
用于使所述样品气溶胶化的雾化器(421)和耦合至所述雾化器(421)的喷雾室(422),所述喷雾室(422)具有向下指向的出口,所述喷雾室(422)的出口以这样的方式连接至所述ICP源(100;500)的入口:经气溶胶化的样品从所述喷雾室(422)沿所述向下指向的竖直方向(G)被传递至所述ICP源(100;500);或者
激光烧蚀单元(430;440),所述激光烧蚀单元(430;440)具有向下指向的出口,所述激光烧蚀单元(430;440)的出口以这样的方式连接至所述ICP源(100;500)的入口:经气溶胶化的样品从所述激光烧蚀单元(430;440)沿所述向下指向的竖直方向(G)被传递至所述ICP源(100;500)。
9.一种电离系统,包括:
流式细胞仪(310)和/或细胞分选仪(320);以及
根据权利要求1至6中的任一项所述的ICP源,
其中,所述ICP源(100;500)以这样的方式耦合至所述流式细胞仪(310)或细胞分选仪(320):所述样品从所述流式细胞仪(310)或细胞分选仪(320)沿所述向下指向的竖直方向(G)被传递至所述ICP源(100;500)。
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