[发明专利]散射显微镜检查

权利要求书

1.一种进行散射显微镜检查的方法，

所述方法包括用散射显微镜对包括表面的物体进行成像，所述散射显微镜包括光源和光检测器，所述光源被布置为发射照射光，显微镜被布置为用所述照射光照射物体，并且用所述光检测器检测从物体弹性散射的光，

所述方法进一步包括在对物体进行成像的同时向所述表面施加电位，电位影响物体的电化学特性，所选择的物体在所述照射光的波长和施加的电位下不具有等离激元共振频率。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，在物体处形成双电层，并且到所述表面的电位影响所述双电层的电化学特性。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述表面是导电材料的表面，并且向所述表面施加电位的步骤包括向所述导电材料施加电位。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述导电材料不是金属。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述表面是介电材料的表面，并且向所述表面施加电位的步骤包括穿过所述介电材料电容性地施加电位。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，物体进一步包括在所述表面上的至少一个颗粒。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述至少一个颗粒具有5000kDa或更小的质量。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其中，所述至少一个颗粒具有10kDa或更大的质量。

9.根据权利要求7至8中任一项所述的方法，其中，所述至少一个颗粒相对于所述照射光具有10^-17m²或者更小的散射横截面。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的方法，其中，所述至少一个颗粒相对于所述照射光具有10^-26m²或者更大的散射横截面。

11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，电位具有在物体的受电位影响的电化学特性的响应周期内恒定的幅度。

12.根据权利要求1至10中任一项所述的方法，其中，电位具有在小于物体的受电位影响的电化学特性的响应周期的周期内变化的幅度。

13.根据权利要求13所述的方法，其中，电位具有在小于物体的受电位影响的电化学特性的响应周期的周期内交替的幅度。

14.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述方法包括将多个不同的电位施加到所述表面，并且针对每个电位检测从物体的一部分弹性散射的光，以用于表征物体的所述部分和/或周围环境。

15.根据权利要求15所述的方法，其中，所述方法进一步包括确定从物体的一部分弹性散射的光相对于每个电位的轮廓与参考轮廓的相似程度。

16.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述显微镜被布置为使得由所述光检测器检测到的信号对从物体弹性散射的光的幅度敏感。

17.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述显微镜是干涉散射显微镜或暗场散射显微镜。

18.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述显微镜被布置为输出物体的二维图像。

19.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，光是紫外光、可见光或红外光。

20.一种散射显微镜检查装置，所述显微镜检查装置包括：

物体，所述物体包括表面；

显微镜，所述显微镜包括光源和光检测器，所述光源被布置为发射照射光，所述显微镜被布置为用所述照射光照射物体，并且用所述光检测器检测从物体弹性散射的光；以及

电压源，所述电压源被布置为在对物体进行成像的同时向所述表面施加电位，电位影响物体的电化学特性，所选择的物体在所述照射光的波长和施加的电位下不具有等离激元共振频率。