[发明专利]荧光X射线分析装置有效

专利信息
申请号: 202080031348.0 申请日: 2020-06-04
公开(公告)号: CN113748333B 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 片冈由行;后藤直人 申请(专利权)人: 株式会社理学
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223
代理公司: 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 代理人: 刘卓然
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 荧光 射线 分析 装置
【权利要求书】:

1.一种荧光X射线装置,该荧光X射线装置对样品照射一次X射线,根据所产生的荧光X射线的测定强度,通过使用基本参数法的定量机构而求出上述样品中的成分含有率的定量值,

上述定量机构进行如下操作:

对于成分的含有率作为标准值而已知的一组标准样品,针对与成分相对应的测定元素的每条荧光X射线,求出装置灵敏度曲线,确定装置灵敏度常数,该装置灵敏度曲线为,使用与标准值相对应的测定元素的质量分数以及从标准值而得到的样品构成元素的质量分数,通过理论强度式而计算的理论强度与测定强度的相关性;

使用上述测定 强度、上述装置灵敏度常数和比例系数,计算每个标准样品中与测定元素相对应的成分的含量的定量值, 该比例系数为,上述理论强度式中为了计算上述理论强度而与测定 元素的质量分数相乘的比例系数;

对于各成分,输出表示标准值和定量值的相关性的图表和/或每个标准样品的标准值、定量值、定量误差和关于上述一组标准样品的定量值整体的准确度。

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