[发明专利]光刻装置和照射均匀性校正系统

权利要求书

1.一种用以调节光刻装置中的束的交叉狭槽照射的照射调节装置，包括：

多个指状物，被配置为调节所述交叉狭槽照射以符合选定的强度分布，

其中每个指状物具有包括至少两个段的远端边缘，并且

其中所述至少两个段形成所述远端边缘的凹痕。

2.根据权利要求1所述的照射调节装置，其中所述至少两个段为直的和/或弯曲的。

3.根据权利要求1所述的照射调节装置，其中所述远端边缘的至少一部分关于对称线对称，所述对称线穿过所述远端边缘的中心位置。

4.根据权利要求1所述的照射调节装置，其中所述远端边缘包括至少四个段，其中所述至少四个段形成所述远端边缘的至少两个凹痕。

5.根据权利要求1所述的照射调节装置，其中所述远端边缘包括至少八个段，其中所述至少八个段形成所述远端边缘的至少四个凹痕。

6.根据权利要求1所述的照射调节装置，其中所述交叉狭槽照射包括基本上矩形的几何形状。

7.根据权利要求1所述的照射调节装置，其中所述交叉狭槽照射包括基本上弓形的几何形状。

8.根据权利要求1所述的照射调节装置，其中所述多个指状物被安装在对应的多个致动器上，所述多个致动器被配置为独立地移动所述多个指状物中的每个指状物以调节所述交叉狭槽照射。

9.一种用以调节光刻装置中的扫描束的交叉狭槽照射的均匀性校正系统，包括：

多个指状物，被配置为调节所述交叉狭槽照射以符合选定的强度分布，

其中每个指状物具有包括至少两个齿的远端边缘。

10.根据权利要求9所述的均匀性校正系统，其中所述至少两个齿包括所述远端边缘的直的和/或弯曲的段。

11.根据权利要求9所述的均匀性校正系统，其中所述远端边缘的至少一部分关于对称线对称，所述对称线穿过所述远端边缘的中心位置。

12.根据权利要求9所述的均匀性校正系统，其中所述远端边缘包括至少四个齿。

13.根据权利要求9所述的均匀性校正系统，其中所述至少两个齿在顶点处接合，以使得所述顶点形成所述远端边缘的凹痕。

14.根据权利要求9所述的均匀性校正系统，其中所述交叉狭槽照射包括基本上矩形的几何形状。

15.根据权利要求9所述的均匀性校正系统，其中所述交叉狭槽照射包括基本上弓形的几何形状。

16.根据权利要求9所述的均匀性校正系统，其中所述多个指状物被安装在对应的多个致动器上，所述多个致动器被配置为独立地移动所述多个指状物中的每个指状物以调节所述交叉狭槽照射。

17.一种光刻装置，包括：

照射系统，被配置为产生辐射束，所述束包括交叉狭槽照射；

照射调节装置，包括：

多个指状物，被配置为调节所述交叉狭槽照射以符合选定的强度分布，

其中每个指状物具有包括至少两个段的远端边缘，并且

其中所述至少两个段形成所述远端边缘的凹痕，

支撑件，被配置为支撑图案形成设备，所述图案形成设备被配置为将图案赋予到所述束上；以及

投影系统，被配置为将经图案化的束投影到衬底上。

18.根据权利要求17所述的光刻装置，其中所述远端边缘包括至少四个段，其中所述至少四个段形成所述远端边缘的至少两个凹痕。