[发明专利]衍射背光的制造方法

权利要求书

1.一种制造衍射背光的方法，所述方法包括：

提供具有衍射光栅的光导；

使用所述衍射光栅将被引导光衍射地散射到所述光导之外，以选择性地曝光邻近所述光导的表面的光致抗蚀剂，选择性曝光在所述光致抗蚀剂中提供与所述衍射光栅对准的开口；以及

沉积反射材料在所述开口中，以形成与所述衍射光栅对准的反射岛，

其中，所述衍射背光的反射衍射光栅元件包括所述衍射光栅和所述反射岛的组合。

2.根据权利要求1所述的制造衍射背光的方法，其中，提供具有衍射光栅的光导包括使用纳米压印模具纳米压印所述光导的表面，以在所述光导表面中形成所述衍射光栅。

3.根据权利要求2所述的制造衍射背光的方法，其中，使用纳米压印模具纳米压印所述光导的表面包括：

将纳米压印接收层施加到所述光导的表面；以及

将所述纳米压印模具压入所述纳米压印接收层中以形成所述衍射光栅。

4.根据权利要求1所述的制造衍射背光的方法，其中，使用所述衍射光栅将被引导光衍射地散射出所述光导包括：

根据全内反射沿着所述光导的长度引导光作为被引导光；以及

使用所述衍射光栅将所述引导光的一部分衍射地散射出所述光导。

5.根据权利要求4所述的制造衍射背光的方法，其中，所述被引导光包括由光学地连接到所述光导的边缘的光源提供的蓝光和紫外光中的一者或两者。

6.根据权利要求1所述的制造衍射背光的方法，还包括将所述光致抗蚀剂施加到所述光导表面，并且在通过所述被引导光的所述衍射散射部分选择性曝光之后显影所述光致抗蚀剂以提供所述开口。

7.根据权利要求1所述的制造衍射背光的方法，其中，将反射材料沉积到所述开口中以形成反射岛包括：

在所述光致抗蚀剂的表面上，包括在所述光致抗蚀剂中的所述开口中沉积所述反射材料层；以及

剥离所述光致抗蚀剂以仅留下在所述开口内的所述反射材料。

8.根据权利要求1所述的制造衍射背光的方法，其中，所述光导包括：

导光基板；

在所述光导基板的表面上的高折射率材料层，所述高折射率材料具有比所述光导基板的折射率大的折射率；以及

低折射率材料层，其具有比所述高折射率材料的折射率小的折射率，高折射率材料夹在所述低折射率材料层与所述光导基板之间，

其中，通过在所述高折射率材料层与所述低折射率材料层之间的界面处的全内反射在所述光导内引导光。

9.根据权利要求8所述的制造衍射背光的方法，其中，所述高折射率材料延伸到所述光导基板的所述表面中的所述衍射光栅的衍射特征中。

10.根据权利要求8所述的制造衍射背光的方法，还包括通过所述光致抗蚀剂中的所述开口在所述低折射率材料层中蚀刻开口，以暴露所述高折射率材料层。

11.根据权利要求10所述的制造衍射背光的方法，其中，将反射材料沉积到所述开口中以形成反射岛包括：

在所述光致抗蚀剂的表面上，包括在所述光致抗蚀剂中的所述开口和所述低折射率材料层中的所述开口中沉积所述反射材料层；以及

剥离光致抗蚀剂以仅留下在开口内和高折射率材料层的表面上的反射材料。

12.根据权利要求11所述的制造衍射背光的方法，还包括从所述光导移除所述低折射率材料层。

13.根据权利要求1所述的制造衍射背光的方法，其中，所述反射材料包括金属、金属聚合物和高折射率电介质中的一种或多种。