[发明专利]化合物、组合物、薄膜、层叠结构体、发光装置、显示器及化合物的制造方法在审
| 申请号： | 202080032179.2 | 申请日： | 2020-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN113784925A | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 内藤翔太;杉内瑞穗;有村孝 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | C01G21/00 | 分类号： | C01G21/00;C07C211/21;C07C251/30;C09K11/66;G02B5/20 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 陈剑华 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化合物 组合 薄膜 层叠 结构 发光 装置 显示器 制造 方法 | ||
1.一种化合物，其具有在X射线衍射图中，晶面密勒指数(001)的峰的半宽度为0.10以上、小于0.60的、以A、B和X作为构成成分的钙钛矿型晶体结构，
A为在钙钛矿型晶体结构中，位于以B为中心的6面体的各顶点的成分，且为1价阳离子，
X为在钙钛矿型晶体结构中，位于以B为中心的8面体的各顶点的成分，且为选自卤离子和硫氰酸根离子构成的组中的至少一种的阴离子，
B为在钙钛矿型晶体结构中，位于以A为顶点配置的6面体和以X为顶点配置的8面体的中心的成分，且为金属离子。
2.一种组合物，其包含：权利要求1所述的化合物，以及，选自下述(2-1)、下述(2-1)的改性体、下述(2-2)和下述(2-2)的改性体构成的组中的至少一种的化合物，
(2-1)硅氮烷
(2-2)具有选自氨基、烷氧基和烷硫基构成的组中的至少一个基团的硅化合物。
3.一种组合物，其包含：权利要求1所述的化合物，以及，选自下述(3)、下述(4)和下述(5)构成的组中的至少一种，
(3)溶剂
(4)聚合性化合物
(5)聚合物。
4.根据权利要求2所述的组合物，其进一步包含：选自下述(3)、下述(4)和下述(5)构成的组中的至少一种，
(3)溶剂
(4)聚合性化合物
(5)聚合物。
5.一种薄膜，其包含权利要求1所述的化合物。
6.一种薄膜，其以权利要求2～4中的任一项所述的组合物作为形成材料。
7.一种层叠结构体，其包含权利要求5或6所述的薄膜。
8.一种发光装置，其具备权利要求7所述的层叠结构体。
9.一种显示器，其具备权利要求7所述的层叠结构体。
10.一种半导体化合物的制造方法，其包括：
混合原料和水的工序，所述原料含有金属元素M的单质和包含金属元素M的化合物中的任意一者或两者；以及，
在所述水的存在下使所述原料进行反应的工序；
所述水的质量WW相对于所述原料中所含的金属元素M的质量WM之比WW/WM为0.05～100，所述半导体化合物包含金属元素M，且在X射线衍射图中，晶面密勒指数(001)的峰的半宽度为0.10以上、小于0.60。
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