[发明专利]暗场显微镜在审
申请号: | 202080034098.6 | 申请日: | 2020-04-02 |
公开(公告)号: | CN113795792A | 公开(公告)日: | 2021-12-14 |
发明(设计)人: | 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01N21/95;G01N21/956;G03F9/00;G02B21/10 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王益 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 暗场 显微镜 | ||
1.一种暗场量测装置,包括:
物镜布置,所述物镜布置能够操作以将照射引导到待测量的试样上并且从所述试样收集散射辐射,所述散射辐射包括零阶辐射和较高阶衍射辐射,其中所述物镜布置限定用于在照射路径中接收所述照射的最大照射角范围和用于在检测路径中接收所述散射辐射的最大检测角范围;和
零阶阻挡件,所述零阶阻挡件能够操作以阻挡所述零阶辐射;
其中所述暗场量测装置能够操作以:执行照射扫描,以使所述照射在所述最大照射角范围的至少两个不同子集的范围内进行扫描;并且同时地执行检测扫描,所述检测扫描使所述零阶阻挡件和所述散射辐射之一或两者在所述照射扫描的至少一部分期间在所述最大检测角范围的相对应的子集的范围内相对于彼此进行扫描。
2.根据权利要求1所述的暗场量测装置,其中所述检测扫描以与所述照射扫描的至少一部分同步的方式被同时执行,以确保在所述照射扫描期间所述零阶总是被阻挡。
3.根据权利要求1或2所述的暗场量测装置,其中所述检测扫描包括移动所述零阶阻挡件。
4.根据权利要求1或2所述的暗场量测装置,其中所述检测扫描包括在所述零阶阻挡件被固定的情况下使所述散射辐射在所述零阶阻挡件上进行扫描。
5.根据权利要求4所述的暗场量测装置,其中由公共的光学元件同时地执行所述照射扫描和检测扫描以确保同步。
6.根据任一前述权利要求所述的暗场量测装置,其中在所述最大照射角范围的多个不同子集处执行所述照射扫描,所述子集的数目取决于所述照射的相干性。
7.根据权利要求6所述的暗场量测装置,其中所述照射是空间不相干的,具有M个空间模式,并且针对所述最大照射角范围的K个不同子集执行所述照射扫描,使得M*K约等于在试样程度的情况下待被寻址的和/或可利用的空间模式的总数目。
8.根据权利要求6所述的暗场量测装置,其中所述照射是空间不相干的照射,并且在两个平台中执行所述照射扫描和检测扫描,所述两个平台是第一平台和第二平台,第一平台包括在所述零阶阻挡件相对于所述散射辐射被固定的同时在所述最大照射角范围的多个第一子集的范围内执行所述照射扫描,在第二平台中在所述最大照射角范围的多个第二子集的范围内同时执行所述照射扫描和检测扫描。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的暗场量测装置,其中所述照射包括多个照射束,并且包括在所述量测装置的照射光瞳中的多个光瞳点,其中对于与至少每个所考虑的测量方向相对应的照射束,所述多个照射束中的每个照射束中的每个光瞳点在所述多个照射束中的其它照射束中具有相对应的光瞳点,由此限定多组相对应的光瞳点,并且其中每组相对应的光瞳点中的光瞳点相对于彼此是空间相干的。
10.根据权利要求9所述的暗场量测装置,其中作为所述照射的源的照射源是相干的,并且所述照射扫描确保除了所述多组相对应的光瞳点之外所述照射在其它部位是不相干的。
11.根据权利要求9或10所述的暗场量测装置,其中每个光瞳点相对于同一照射束中的所有其它光瞳点是实质上空间不相干的。
12.根据权利要求9至11中任一项所述的暗场量测装置,其中每个照射束位于所述照射光瞳中,使得对于每个照射束,在由周期性结构对所述测量照射进行散射之后,相对应的较高衍射阶在所述量测装置的检测光瞳中被捕获。
13.根据权利要求12所述的暗场量测装置,其中所述多个照射束包括在每个所考虑的测量方向上的一对照射束,并且对于每个方向,所捕获的相对应的较高衍射阶包括互补的较高衍射阶。
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