[发明专利]满足增益平坦度标准的空中测量

说明书

一种用于测量混响室(110)中的至少一个DUT(120)在频带上的性能的方法，该方法包括迭代地执行以下操作：由混响室(110)生成衰落场景；识别频带中包含的至少一个测量子带，其中，至少一个测量子带符合增益平坦度标准；测量至少一个DUT(120)在至少一个识别的测量子带中的性能，由此生成至少一个性能测量结果；对至少一个性能测量结果进行累积，以及确定测量覆盖，并且在测量覆盖满足覆盖标准的情况下终止性能测量。

技术领域

本公开内容总体涉及用于天线布置和无线装置的测试设备。还公开了用于测量天线系统的性能和用于测试无线装置的系统和方法。

背景技术

混响室(RC)，也称为电磁混响室(ERC)或模式搅拌室(MSC)，已经成为用于测量各种无线装置的空中(OTA)性能的有效工具。RC主要用于评估射频反射环境中(即，当被测装置(DUT)经受多径传播时)的天线系统性能。

在RC中，信号由封闭室或封闭腔中的测试天线布置注入或拾取，该封闭室或封闭腔包括向内的射频反射壁。注入的信号经过许多不同的轨迹多次反射后到达DUT。这在接收器处产生射频信号衰落状态。通过移动其上布置有DUT的模式搅拌板和/或转盘，室的几何结构改变，这又改变DUT经历的衰落状态。因此，可以有效地生成丰富的各向同性多径(RIMP)环境，其中可以以有效的方式测试具有不同入射波成分的大量衰落状态。

然而，RIMP环境影响通常在更消声的环境中进行的如误差向量幅度(EVM)的测量的某些类型的测量的结果。因此，通常使用传导测量(conducted measurement)执行EVM测量，在传导测量中，电缆被用于在DUT与测量设备之间传递测试信号。

3GPP TS 36.104 V16.1.0在第6.5.2节和附录E中讨论了EVM测量。

发明内容

本公开内容的目的是提供用于测量混响室或类似测量设备中的至少一个DUT的性能的技术。

该目的通过用于测量混响室中的至少一个DUT在频带上的性能的方法来实现。该方法包括迭代地执行以下操作：由混响室生成衰落场景，并识别频带中包含的至少一个测量子带，其中，该至少一个测量子带符合增益平坦度标准。该方法还包括：测量至少一个DUT在至少一个被识别的测量子带中的性能，由此生成至少一个性能测量结果，并对至少一个性能测量结果进行累积。该方法然后确定测量覆盖并在该测量覆盖满足覆盖标准的情况下终止性能测量。

这样，测量DUT在频率选择性无线电传播环境中的性能变得有可能，几乎就像在平坦衰落环境中进行测量一样，这是优点。

另一优点是：不同类型的测量例如电磁兼容性(EMC)测量和电磁干扰(EMI)测量可以在批处理模式下与通常不在混响室中进行的测量(诸如EVM的测量)一起进行。

根据各方面，生成衰落场景包括选择混响室的加载和/或选择混响室的相干带宽。加载和相干带宽影响RC内部的无线电传播环境的频率选择性。因此，有利地，本文公开的测量设备可以适用于具有不同的频率选择性水平的不同传播场景。

根据各方面，增益平坦度标准包括跨测量子带的增益差的测量。这是可以适用于不同的测量需求的通用平坦度标准，这是优点。平坦度标准可以被选择为测量精度与测量时间之间的权衡，这是优点。

根据各方面，可以在每次迭代中识别多个测量子带。这缩短了测量时间和/或提高了测量精度，这是优点。

根据各方面，仅当测量子带跨越最小数目的资源块和/或仅当测量子带跨越最小频率范围时才识别测量子带。通过要求子带跨越最小数目的资源块和/或要求子带跨越最小频率范围，在测量结果中避免了寄生效应和瞬态行为，从而导致提高了测量精度。