[发明专利]用于粒子治疗系统的准直器和射程调节器

权利要求书

1.一种系统，包括：

粒子加速器，用于产生粒子束以治疗患者；

包括开口的载体，所述开口包括第一开口和第二开口，所述载体包括抑制粒子束输送的材料，并且所述载体位于粒子加速器和患者之间；和

控制系统，用于控制粒子束向第一开口的移动，以使粒子束的至少一部分能够到达患者，用于在粒子束在第一开口处保持静止时改变粒子束的能量，以及用于控制粒子束从第一开口向第二开口的移动。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述开口包括孔阵列，所述第一开口包括第一孔，所述第二开口包括第二孔。

3.根据权利要求1所述的系统，其中所述开口包括槽阵列，所述第一开口包括第一槽，所述第二开口包括第二槽。

4.根据权利要求1所述的系统，进一步包括：

在粒子加速器和患者之间的射程调节器，该射程调节器包括构造成移入和移出粒子束路径的结构，以便改变粒子束的能量；

其中控制系统被配置成控制结构进入或离开粒子束路径的运动，以改变粒子束的能量。

5.根据权利要求4所述的系统，其中所述结构包括用于在粒子束穿过一个或多个板时改变粒子束能量的板，所述板包括碳化硼。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述粒子加速器包括超导磁体，所述超导磁体包括导电线圈；和

其中控制系统被配置成改变通过导电线圈的电流以改变粒子束的能量。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制系统被配置成改变所述粒子束的能量，使得在所述粒子束从所述第一开口移动到所述第二开口之前，粒子束通过所述第一开口治疗患者体内的标靶的柱状部分；和

其中，当粒子束处于第一开口时，粒子束向标靶输送超过每秒1格雷的辐射剂量，持续时间小于5秒。

8.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制系统被配置成改变所述粒子束的能量，使得在粒子束从所述第一开口移动到所述第二开口之前，粒子束通过所述第一开口治疗患者体内的标靶的柱状部分；和

其中，当粒子束处于第一开口处时，粒子束向标靶输送每秒20格雷至每秒100格雷的辐射剂量，持续时间为10毫秒至5秒。

9.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制系统被配置成改变所述粒子束的能量，使得在粒子束从所述第一开口移动到所述第二开口之前，粒子束通过所述第一开口治疗患者体内的标靶的柱状部分；和

其中，当粒子束处于第一开口处时，粒子束向标靶传递每秒40格雷至每秒120格雷的辐射剂量，持续时间小于5秒。

10.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制系统被配置成改变所述粒子束的能量，使得在粒子束从所述第一开口移动到所述第二开口之前，粒子束通过所述第一开口治疗患者体内的标靶的柱状部分；和

其中，当粒子束处于第一开口时，粒子束以超高剂量率向标靶输送辐射剂量。

11.根据权利要求1所述的系统，其中所述开口包括孔，所述第一开口包括第一孔，所述第二开口包括第二孔；并且

其中控制粒子束向第一孔然后向第二孔的移动包括将粒子束居中在第一孔，然后将粒子束居中在第二孔。

12.根据权利要求1所述的系统，其中，在粒子束从第一开口移动到第二开口之后，粒子束不再移动到第一开口。

13.根据权利要求1所述的系统，进一步包括：

包括导电线圈的扫描磁体，该扫描磁体用于产生磁场以影响粒子束的移动；

其中控制系统被配置成通过改变流过扫描磁体的导电线圈的电流来影响磁场，从而控制粒子束的移动。