[发明专利]封装结构及制作方法在审

专利信息
申请号: 202080034788.1 申请日: 2020-04-06
公开(公告)号: CN113811994A 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 陈翰文;S·文哈弗贝克;朴起伯;G·切莱雷;D·托尼尼;V·迪卡普里奥;曹圭一 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498;H01L23/538;H01L25/065;H01L21/48;H01L21/50
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 付尉琳;侯颖媖
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 封装 结构 制作方法
【权利要求书】:

1.一种封装组件,包括:

框架,具有第一表面,所述第一表面与第二表面相对,所述框架进一步包括:

框架材料,所述框架材料包含硅;

至少一个空腔,其中设置有半导体晶粒;以及

通孔,包括通孔表面,所述通孔表面定义开口,所述开口从所述第一表面到所述第二表面延伸穿过所述框架;

绝缘层,设置在所述第一表面与所述第二表面上方,所述绝缘层接触所述半导体晶粒的每一侧的至少一部分;以及

电互连,设置在所述通孔内,其中所述绝缘层设置在所述通孔表面与所述电互连之间。

2.如权利要求1所述的封装组件,其中所述框架包括太阳能基板。

3.如权利要求1所述的封装组件,其中所述框架具有在约60μm和约160μm之间的厚度。

4.如权利要求1所述的封装组件,其中所述至少一个空腔具有在约3mm和约50mm之间的横向尺寸。

5.如权利要求1所述的封装组件,其中所述通孔具有在约20μm和约200μm之间的直径。

6.如权利要求1所述的封装组件,进一步包括氧化层,所述氧化层形成在所述框架上。

7.如权利要求1所述的封装组件,其中所述绝缘层包括环氧树脂。

8.如权利要求7所述的封装组件,其中所述绝缘层在所述电互连与所述半导体晶粒之间具有在约5μm和约50μm之间的厚度。

9.如权利要求1所述的封装组件,进一步包括设置在所述电互连与所述绝缘层之间的黏附层或籽晶层。

10.如权利要求9所述的封装组件,其中所述黏附层包括钼,并且所述籽晶层包括铜。

11.一种封装组件,包括:

嵌入式晶粒组件,所述嵌入式晶粒组件包括:

框架,所述框架包含硅;

氧化层,设置在所述框架的表面上方;

一个或多个半导体晶粒,设置在所述框架内,所述一个或多个半导体晶粒具有形成在其上的集成电路;以及

绝缘层,形成在所述氧化层上,所述绝缘层包括环氧树脂材料,所述环氧树脂材料中设置有陶瓷颗粒;以及

一个或多个金属互连,设置在所述嵌入式晶粒组件的一部分内。

12.如权利要求11所述的封装组件,其中所述框架包括单晶太阳能基板。

13.如权利要求11所述的封装组件,其中所述框架进一步包括:

一个或多个空腔,形成在所述框架中,所述一个或多个空腔具有设置在其中的一个或多个半导体晶粒;以及

一个或多个通孔,形成在所述框架中,其中所述一个或多个金属互连设置成穿过所述一个或多个通孔。

14.如权利要求11所述的封装组件,进一步包括:

钼黏附层和铜籽晶层,设置在所述一个或多个金属互连中的每一者与所述绝缘层之间。

15.一种封装组件,包括:

嵌入式晶粒组件,所述嵌入式晶粒组件包括:

框架,所述框架包含硅;

一个或多个半导体晶粒,设置在所述框架内;

第一绝缘层,形成在所述框架上,所述第一绝缘层包括环氧树脂材料,所述环氧树脂材料包括陶瓷颗粒;以及

一个或多个电互连,设置成穿过所述框架或所述第一绝缘层;以及

重分布层,形成在所述嵌入式晶粒组件上,所述重分布层包括:

第二绝缘层,形成在所述第一绝缘层上;以及

一个或多个电重分布连接,设置成穿过所述第二绝缘层。

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